晶圆接合暨微影技术设备供应商EV Group（EVG），今日推出EVG7300自动化SmartNIL奈米压印与晶圆级光学系统。EVG7300是EVG最先进的解决方案，可在单一平台上结合如奈米压印微影技术（NIL）、透镜压铸与透镜堆叠（UV接合）等多重基於UV架构的制程。这套多功能系统旨在满足涉及各种微型和奈米图案以及功能层堆叠等崭新应用的先进研发与生产需求，包括晶圆级光学（WLO）、光学感测器与投影机、汽车照明、扩增实境头戴式装置使用的波导管、生物医疗设备、超颖透镜（meta-lens）与超颖介面（meta-surface），以及光电学。EVG7300支援大至300毫米的晶圆尺寸，并具备高精度对准功能、先进制程控制与高制程产出量，满足各种自由形式及高精度奈米和微型光学元件与设备的量产需求。

EVG 7300 SmartNIL奈米压印与晶圆级光学系统，可在单一平台上结合奈米压印微影技术、透镜压铸与透镜堆叠等多重基於UV架构的制程。

EV Group企业技术总监Thomas Glinsner博士表示：「EV Group凭藉累积超过20年的奈米压印技术经验，持续作为引领此关键领域的技术先驱，开发各种创新的解决方案，以满足客户不断变化的需求。我们最新推出的奈米压印解决方案系列产品EVG7300，将SmartNIL全域压印技术及透镜压铸和透镜堆叠结合成一套顶尖的系统，具备市场上最精确的对准与制程叁数控制，为我们客户的产业研究与生产需求提供前所未有的弹性。」

EVG7300既可作为独立工具，也可当作一个模组整合在EVG的HERCULESR NIL之中，作为UV-奈米压印微影（UV-NIL）的全整合解决方案，其中还可增加如清洗、光阻涂层，以及烘烤或後处理等额外的预处理步骤，以最隹化特定制程的需求。这套系统透过结合对准阶段的改善、高精度光学元件、多点间隙控制、非接触式间隙量测与多点力控制，具可高达300奈米的对准精度。

EVG7300是具高度弹性的平台，提供三种不同的制程模式，包含透镜压铸、透镜堆叠与SmartNIL奈米压印，并支援150毫米到300毫米晶圆的基板尺寸。模板与晶圆的快速装载、快速对准的光学元件、高功率固化以及极小的工具占用空间，能够满足业界对崭新WLO产品的制造需求。

EVG现已开始接受各界对EVG7300自动化SmartNIL奈米压印与晶圆级光学系统的订单，并在位於公司总部的NILPhotonics Competence技术中心提供产品展示。

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