半导体制造准分子雷射光源供货商-Cymer，日前宣布推出XLA 100 - 最新高效能光源XL系列的第一套产品，此家族将支持三个深紫外光波长的先进微影应用。XLA 100氩氟光源采用Cymer创新的MOPA（Master Oscillator Power Amplifier）双气体共振腔技术，不但是业界功率最高、带宽最窄的雷射光源，还能大幅提高193 nm微影应用的产出。除了这套产品外，Cymer还宣布它已接获一家微影设备全球主要供货商的XLA 100订单，总金额超过1.3亿美元；根据双方协议，从XLA 100推出开始一直到2004年底，Cymer将分批把这些光源设备提供给客户。

Cymer执行长Bob Akins表示，公司致力让更多新微影光源更快投入生产，并协助客户实现它们所带来的经济效益。他说：「带宽和功率是缩小设计规则的主要限制因素，透过将XLA 100整合至他们的先进微影工具，客户即可协助芯片制造商克服此问题，同时提高整体的晶圆产出能力。这份最新协议证明了XLA 100关键优势的重要性，包括双共振腔设计、4 kHz频率以及更低的消耗件与设备持有成本。」

Akins补充说：「我们相信XLA 100可以满足明日193nm领域的先进微影应用要求；随着业界迎向即将来到的『深紫外光黄金时代』。」