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陶氏發表OPTIPLANE先進半導體製造化學機械研磨液平台
 

【CTIMES/SmartAuto 編輯部報導】   2016年08月02日 星期二

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陶氏電子材料是陶氏化學公司(DOW)的一個事業部,推出 OPTIPLANE化學機械研磨液 (CMP) 平台。OPTIPLANE 研磨液系列的開發是為了滿足客戶對先進半導體研磨液的需求:能以有競爭力的成本,符合減少缺陷的要求和更嚴格的規格,適合用來製造新一代先進半導體裝置。

新一代CMP研磨液代表陶氏先進的層間介電層研磨液
新一代CMP研磨液代表陶氏先進的層間介電層研磨液

全球 CMP 消耗品市場持續成長,部分的成長驅動力來自新的 3D 邏輯、NAND 快閃記憶體和封裝應用,這些均要求大幅提高的平坦化效果和最低程度的缺陷率,以符合無數先進電子裝置的性能需求。

「生產先進半導體晶圓的邏輯和記憶體晶片公司面臨越來越多的挑戰,要能滿足不斷改變的需求,增強性能, 降低成本和同時提高最大產量。CMP 因此成為半導體製造過程中的關鍵因素,而且 CMP 的使用正持續增加。」陶氏電子材料 CMP 科技 部全球研磨液業務總監Adam Manzonie 表示:「我們已開發出 OPTIPLANE 研磨液平台,以回應我們客戶對 CMP 研磨液的需求:多功能、具成本效益,並且能因應與日俱增的要求。」

透過先進的化學程序和最佳化粒子濃度,OPTIPLANE CMP 研磨液能提供多種可調整研磨率的配方,亦可調整選擇能力,以符合客戶專屬的獨特規格。可稀釋的 OPTIPLANE CMP 研磨液平台不但能實現優異的平坦化效率和低缺陷率,也能提高產量和降低持有成本 (CoO)。

「陶氏相當瞭解 CMP 研磨墊和研磨液間材料的相互作用。」陶氏電子材料 CMP科技部全球研發總監 - Marty DeGroot 表示。「這樣的瞭解讓我們能運用我們的研發能力,開發出能對應研磨墊性能、並依照每一位客戶的需求提供具有獨特性能效益的研磨液配方。」

即將推出的第一種配方為 OPTIPLANE 2118 CMP 研磨液,這是新一代的層間介電層(ILD) 研磨液,亦可用於不同的前段 (FEOL) 研磨應用。OPTIPLANE 2118 CMP 研磨液現有樣品可供索取。(編輯部陳復霞整理)

關鍵字: 研磨液平台  化學機械  半導體製造  陶氏  製程材料類  其他電子資材元件 
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