受惠於生成式AI带动伺服器升级,已使相关半导体需求从单一运算晶片,扩展为涵盖GPU、AI ASIC、HBM等不同元件的完整系统,以及对於半导体先进封测制程的产能,进一步加速前後段半导体设备为此升级转型。
从前段制程的微影、蚀刻、薄膜沉积、离子植入与CMP,直到後段封装所需的晶圆薄化、切割、键合、封胶与对准设备,皆将成为AI晶片能否稳定量产的关键。
半导体湿制程设备暨材料解决方案厂弘塑科技执行长张鸿泰表示,该公司目前主要在技术难度高,对於制程Know-how要求的较深的多次蚀刻与去光阻制程,获得毛利率高;单纯DI Water(去离子水)清洗或可重工(rework)制程的毛利率,则相对较低。虽然单季毛利率会受客户验收产品组合影响而波动,但全年平均毛利率不致因此而明显受到影响。
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