美光科技近日开始出货采用1γ(1-gamma)制程节点的低功耗双倍资料速率(LPDDR5X)记忆体认证样品。1γ制程之所以能实现这些突破,关键在於美光采用了多项先进的半导体制造技术。这是美光首款应用极紫外光(EUV)微影技术的行动记忆体解决方案。EUV技术能够在晶圆上刻画出更精细的电路图案,从而提高位元密度并降低功耗。
此外,1γ制程还采用了次世代高介电金属闸极(HKMG)技术,这项技术能有效提高电晶体的性能与能效。HKMG透过使用具有高介电常数的材料作为电晶体的绝缘层,大幅减少了漏电流问题,这正是1γ制程能够在提升性能的同时降低功耗的关键因素之一。
1γ制程LPDDR5X记忆体的问世,直接解决了当前行动装置面临的几个关键挑战。随着AI应用日益普及,传统记忆体在处理大型语言模型和生成式AI工作负载时常面临频宽不足的问题,导致回应迟缓。1γ制程的高频宽设计有效缓解了这一瓶颈。
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