台积电与美商巨积公司(LSI)4日共同宣布签署一项合作协定,双方将结合力量共同开发半导体尖端制造技术,并以发展0.13微米先进制程为初期合作目标。
根据台积电与LSI所签署的这项合作发展协定,双方将共同发展0.13微米制程技术,其中,LSI将利用台积电的0.13微米制程技术,来支援其客户的系统单晶片(system-on-a-chip; SoC)产品设计,产品将利用二家公司世界级水准的制造能力进行生产。此外,二家公司亦有意共同开发新一代的制程技术,并以超越半导体产业技术蓝图为目标。
LSI全球营运执行??总经理Joe Zelayeta表示,透过这项合作协定,双方优异的先进制程技术,搭配LSI的生产能力,不仅可进一步提升LSI的制程技术,巩固其技术发展脚步,同时LSI将充份运用此一优势,提供更隹的服务予其全球客户。
...
...
| 另一名雇主 | 限られたニュース | 文章閱讀限制 | 出版品優惠 |
| 一般使用者 | 10/ごとに 30 日間 | 0/ごとに 30 日間 | 付费下载 |
| VIP会员 | 无限制 | 25/ごとに 30 日間 | 付费下载 |

