前言

随着关键尺寸逐年缩小，迭对预算变得越来越紧缩。此外，先进刻蚀机的成本成为在非关键层上使用最先进的扫描式曝光机的阻碍，导致在不同的层使用不同的刻蚀机；这种做法通常被称为「混搭」。由于每台刻蚀机各有其独一无二的特征，因此混搭成为产生高阶迭对误差的问题根源。与单独一台刻蚀机作业相比，扫描式曝光机的对准效能在混搭中会降低2个系数级。在45奈米，与实际扫描式曝光机对准效能相比，迭对预算几乎没有余量。

每台刻蚀机在区域失真中均有不同的特征。即使是完美对准，刻蚀机的特征差异也会引起迭对误差。因此，必需采取高阶校正来确保匹配。图一显示了区域层级匹配，但这种情况对于机台栅格也是相同的。
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