千里迢迢來台參加Semicon Taiwan 2004展覽的半導體熱處理與原子層沉積（atomic layer deposition；ALD）技術供應商Aviza Technology（暐貰科技），雖然才剛滿一歲，在全球各大半導體工廠裏運作的機組卻已有2100多部。Aviza Technology總裁暨首席執行長Jerry Cutini表示：「悠久的歷史與足夠的經驗讓Aviza在短短一年的時間內，市佔率即成長了兩倍。富彈性的產品特性與良好的售後服務網是我們滿足客戶不同需求的利器。」

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@圖說:(圖一)　Aviza Technology總裁暨首席執行長Jerry Cutini

總公司位於加州Scotts Valley的Aviza，是於2003年10月由VantagePoint Venture Partners所創立，在全球共有十多處行銷與客服據點。Aviza的歷史可追溯至1962年成立的半導體電熱器元件供應商Thermco，因此在1960年代即可見其產品身影。在不斷的併購中，由VantagePoint籌集資金將ASML的熱處理和原子層沉積部門獨立成新的Aviza Technology。也由於其重要成員均來自於包括Watkins-Johnson、SVG（Silicon Valley Group）及ASML等廠商，使得Aviza在熱處理與沉積解決方案上擁有豐富的技術與經驗。因此雖然Aviza是一家新成立的公司，卻已經累積了40年的技術和產品。

據調查，2004年全球半導體設備商成長率是60％，2005成長率則約18～20％，未來成長將趨緩。以設備商來說，Aviza的產能已經明顯高出許多，而製程方面的彈性是Aviza的最大優勢。多元化的產品可滿足客戶不同需求，如對於單一產品的量產，或多樣產品的少批量生產等。Jerry Cutini在半導體設備業界已有25年以上的豐富經驗，所聘用的高階主管也都具有一定的資歷。而悠久的研發歷史也讓Aviza在創立初期已有超過2100部機台在世界各地的半導體大廠中運轉。

Jerry Cutini也提及，設備商研發的困難之處，在於開發過程須花費許多時間去試驗新材料。現在市場上化學原料種類增加了十幾種，且半導體材料越來越小、越薄、越精密，因此設備商在分析試驗的過程中，開發時間將會拉長。現今Aviza在市場上的競爭廠商大約有三～四家，但是該公司產品的市佔率還是從2003年的5％提高到2004年的10％，2005年更預計會有12～14％。由於Aviza非常注重良好的售後服務，因此其產品雖然價格並非市場上最低，但卻擁有極高價效比。

此次Aviza展出針對12吋晶圓廠的mini-batch ALD系統，可為單晶圓高介電材料電容器如HfO2與HfSiO2等沉積處理提供更高的均勻度。而且其產量比HF薄膜沉積的單晶圓工具快上四倍，因此非常適合用於大量生產（如DRAM），或是小批次應用的晶圓廠。Jerry Cutini說：「Aviza產品以薄膜沉積技術為主要發展方向，產品線應用範圍廣，可從0.5微米到65奈米，將來更能延伸至32奈米晶圓，產品延展性非常高。」目前Aviza的產品涵蓋熱處理與原子層沉積領域，將來還會積極尋找更新的技術與收購機會以拓展市場。