Veeco Instruments Inc.宣布与ALLOS Semiconductors（ALLOS）完成一项战略措施，以展示200mm 矽基板用於氮化??蓝/绿光Micro-LED的生产上。 Veeco与ALLOS合作将其专有的磊晶技术转移到Propel Single-Wafer MOCVD系统上，以便於现有的矽生产线上实现生产Micro-LED。

“使用Propel反应腔，我们就拥有了一项MOCVD技术来实现高产能的GaN磊晶，可满足在200mm矽生产线上生产Micro-LED元件的所有要求， “ALLOS半导体公司执行长Burkhard Slischka表示。不到一个月的时间，我们就已经在Propel上建立了我们的技术，并且获得了无裂纹、无回熔 (meltback-free)的晶圆，其翘曲度低於30 微米，晶体质量高，优异的厚度均匀性与小於1nm的波长均匀性。 和Veeco一起，ALLOS期待将这种技术更广泛地应用於Micro-LED的产业中。“

Micro-LED显示技术由< 30x30平方微米的红色，绿色，蓝色（RGB）无机LED所组成，再转化为显示器背板以形成子像素。与OLED和LCD相比，这些高效率LED直接发射且耗电量更低，却可以为移动显示器，电视机和穿戴式装置提供卓越的亮度和对比度。Micro-LED的制造需要高质量、均匀的磊晶晶片来满足显示器的产量和成本控制的目标。

“与竞争对手的MOCVD平台相比，由於Veeco的TurboDisc technology提供了更广泛的制程范围，因此Propel提供了一流的均匀性同时还能获得优良的薄膜品质。”Veeco高级??总裁兼MOCVD营运总经理Peo Hansson博士表示。“将Veeco领先的MOCVD专业技术与ALLOS的GaN-on-Silicon的磊晶技术结合在一起，使我们的客户能够开发出低成本的Micro-LED，为新的市场中的开拓出新的应用。”