晶圆代工大厂台积电日前宣布该公司2004年将力推低介电系数制程技术（Low-K Technology）；该公司将把该技术列为12吋90奈米制程的标准配备，并预期全年将可以此技术将产能由2003年的1万片提升至10万片（以8吋晶圆计）。

台积电副总执行长曾繁城表示，台积电是在3年多前开始发展Low-K技术，目前在0.13微米制程的生产良率已与传统制程相当，并成功为包括绘图芯片大厂ATI在内的数十家客户进行量产.。

台积电指出，未来12吋90奈米制程将完全采用Low-K技术，并于本季进入加速量产阶段。Low-K技术可减少产品的耗电量，并同时增加执行速度，对需要省电以及高速应用的产品是较佳的选择。