多家半导体市调机构在美国加州Pebble Beach所举行的半导体产业策略论坛（Industry Strategy Symposium；ISS）中，对于90奈米制程成熟度与否发表不同见解；有部份分析师认为0.13微米制程可顺利在预定时程中升级90奈米，但亦有其他分析师认为90奈米制程困难重重，0.13微米制程仍是未来2年的主流。

网站Silicon Strategies引述市调机构VLSI总裁Dan Hutcheson看法指出，由于半导体厂商在迈向0.13微米制程的过程中已累积不少经验，因此90奈米制程蓝图发展应可较为顺利，而进入90奈米制程后，半导体厂商间的技术层次拉锯加大，领先者一旦跨越门坎，跟随者（followers）将会被远远抛在后面。

但并非所有分析机构对90奈米制程抱持乐观看法，市调机构Semico Research分析师Joanne Itow指出，厂商在0.13微米进程中所习得的经验可作为进入90奈米制程的敲门砖，其实只是一种理论，然而厂商实际所面临的问题可能更为复杂。

市调机构Gartner Dataquest分析师Klau-Dieter Rinnen则指出，光罩成本的考虑，使得厂商在进行90奈米设计时，已从20几个设计缩减到个位数字，而高额的光罩成本也的确成为90奈米制程发展的重大阻碍之一。