账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
IBM开发利用气孔绝缘的布线新技术
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2007年05月10日 星期四

浏览人次:【5263】

美国IBM宣布成功发展出利用空气孔来作为布线中绝缘的技术。根据了解,IBM已经利用一种自动整合反应的奈米技术开发出了计算机LSI的制造技术。这种技术与自然形成的雪花原理相同,能够在芯片内部自动整合形成无数的空气孔,并作为布线间的绝缘体来使用。

将空气孔作为布线间的绝缘体使用时,最大优点是能够减小布线间的空间。这样便能够以更快的速度传输芯片上的电子信号,据了解约可增加35%的速度,且芯片耗电量也可减少15%。这种技术效果相当于将摩尔定律(Moore’s Law)向前推进两个世代的水平。而所形成的空气孔极为细小,直径约仅为20nm。

IBM此次所开发的气孔绝缘技术已在其纽约East Fishkill的先进半导体生产在线完成整合。计划将于2009年将这样的技术实际应用于芯片的制造。IBM将首先从该公司的服务器专用微处理器开始应用该技术,并陆续推广到其他公司所委托代工生产的芯片上。

相关新闻
工研院欢厌电光50周年 百位半导体及光电业者齐聚
工研院勾勒南台湾产业新蓝图 启动AI与半导体双引擎
AI擂台的血腥争夺 英特尔如何在刀光剑影中扭转颓势?
安立知:NTN设备开发将面临延迟和频移等挑战
Anritsu 安立知全新非地面网路专题网站亮相,支援装置开发
相关讨论
  相关文章
» SiC MOSFET:意法半导体克服产业挑战的颠覆性技术
» STM32MP25系列MPU加速边缘AI应用发展 开启嵌入式智慧新时代
» STM32 MCU产品线再添新成员 STM32H7R/S与STM32U0各擅胜场
» STM32WBA系列推动物联网发展 多协定无线连接成效率关键
» 开启边缘智能新时代 ST引领AI开发潮流


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8CT4I1D9KSTACUKO
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw