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Mentor EDA进一步支援三星Foundry 5/4奈米制程技术
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2020年08月22日 星期六

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Mentor, a Siemens business旗下的Calibre nmPlatform和Analog FastSPICE(AFS)自订和类比/混合讯号(AMS)电路验证平台已通过三星Foundry的最新制程技术认证。客户现在可以在三星的5/4奈米FinFET制程上使用这些产品,为其先进的IC设计tapeouts进行验证和sign-off。

三星5奈米FinFET制程具备优异的功率、效能和面积(PPA)特性,其自身的增强功能,结合更精细的5奈米几何尺寸,能够提供比前几代制程节点更加突出的效能表现。

三星电子设计实现团队??总裁Jongwook Kye表示:「三星和Mentor已有长期的合作实绩,在此基础上我们的共同客户能够充分运用业界最隹的Calibre解决方案。现在,Calibre和AFS均已通过最新的三星Foundry制程认证。结合双方的专业知识,可协助设计人员开发和快速验证其创新IC,以满足各类高成长的市场和应用需求。」

除Calibre nmDRC之外,通过三星Foundry新制程认证的Mentor工具还包括:

· Calibre xACT ━ 可解决与先进奈米设计相关的技术挑战,包括多重曝光、FinFET、局部互连、高复杂度和严苛的约束条件等。其独特的混合引擎可为FinFET这类细微的3D结构提供至关重要的场解算器准确度,并具备快速处理能力,可迅速完成全晶片设计。

· Calibre?YieldEnhancer ━ 具有SmartFill和ECO Fill功能,客户可控制设计平面度并缩短反覆设计的周转时间。Calibre YieldEnhancer可透过自动化PowerVia流程减少IR压降,协助客户提高设计可靠度。同时,三星与Mentor合作将此流程客制化,为其领先的制程技术提供最高数量的通孔加??。

· Calibre PERC ━ 能够对实体布局和网表进行独特的整合分析,自动执行复杂的可靠度验证检查。支援5/4奈米制程的三星Foundry Calibre PERC设计套件可提供额外的验证检查,协助客户克服静电放电和闩锁(latch-up)可靠度的相关挑战。

· Calibre nmLVS ━ 可作为三星Foundry萃取流程的前端。Calibre nmLVS可因应不断增加的布局复杂度要求,以及设计团队对先进运算的更高需求,使他们在验证复杂电路的同时,仍能在预期的执行时间?达成先进制程节点的设计目标。

· Calibre RealTime数位和自订介面平台 ━ 利用同样通过三星Foundry认证予批量Calibre的设计套件,在数位和自订设计流程中即时地实现sign-off质量的DRC检查。在先进和成熟节点设计的DRC收敛期间,这些介面可提供显着的生产力优势,使客户能快速优化其手动的DRC修正,以节省更多时间来实现PPA目标。

· Mentor的AFS平台 ━ 帮助晶片级系统(SoC)设计人员充满信心地完成电路验证。三星Foundry的器件模型和设计套件均支援AFS平台,双方的共同客户能?以此在验证类比、RF、混合讯号、记忆体和自订数位电路时,实现比传统SPICE模拟器速度更快的奈米级SPICE准确度。

Mentor Calibre设计解决方案产品管理??总裁Michael Buehler-Garcia表示:「三星Foundry不断探索新制程,面向市场持续提供高度创新的技术,藉以实现 更复杂的IC设计。我们很高兴能与三星Foundry继续?手,并作为其创新解决方案的关键设计要素,协助双方共同客户设计和制造出最先进的IC产品。」

關鍵字: EDA  mentor 
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