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NEC率先突破0.1微米制程技术的门坎
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年06月08日 星期五

浏览人次:【1813】

日本NEC公司日前宣布成功研发0.095微米的制造技术,成为世界上首家率先突破0.1微米技术制程的公司。该项技术将应用于制造大规模集成电路,并将于2001年第二季末正式推出市场。和0.13微米技术制造的旧产品比较,采用0.095微米制程的新产品的集成化程度提高19倍,可以节省30%的电能,并且获得1GHz的运行速度,这项优点对于高速大容量通信系?,以及要求高节电标准的移动设备来说,具有重大的应用价值。因此,专家们认为0.1微米制程的突破,将快速推动互网连络。

NEC公司表示将在3类半导体产品优先采用0.095微米制程,包括大容量通信终端与生成图形用的高速型产品、普及互联网及数字信息家电用的高密度型、移动设备用的低耗能型半导体产品。NEC公司已开始接受全球各地厂商的订货,并且将在2001年11月份开始量产。

關鍵字: NEC  其他电子资材组件 
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