据Chinatimes报导，半导体次波长蚀刻技术供应商Numerical Technologies日前与联华电子宣布，双方延续1999年与Numerical 的相移技术授权协议，联电并将于第二季与美商智霖（Xilinx）等客户，共同开发试产90奈米制程技术。台积电近期也将与低功率（low power）SRAM设计公司合作开发0.11微米与其他先进制程。

Numerical表示，与联电的合作研究与促进100奈米以下的积体电路制程技术发展始于1999年，此项三年协议亦延续双方2000年12月开始的授权合作关系。联电副总经理李俊德表示，与Numerical的合作克服生产次波长积体电路的挑战，协助彼此双赢，才会进一步延续双方在90奈米及其以下的技术合作关系。

联电90奈米制程技术预计在第二季试产，合作对象包括美商智霖等。联电未来将持续评估及投资于下一代先进制程技术。台积电0.13微米制程量产时间较联电快，而积极开发90奈米技术之前，台积电已与国内某SRAM设计公司共同开发0.11微米制程，年中之前可望有初步成果。

业界将0.11微米制程技术视为0.13微米的「进阶」版本，而其接单价格依照业界惯例与0.13微米相同；就如同0.22微米之于0.25微米制程。过去台积电与联电也曾在0.15与0.13间因制程技术开发早晚，形成台积电长于0.13、联电多强调0.15微米的态势。