提供热处理制程与原子层沉积(ALD)系统全球供货商Aviza Technology以及全球半导体产业单晶圆湿式处理技术SEZ Group，宣布双方将合作解决新一代IC制程中ALD薄膜清除的挑战。在合作研发的协议下，两家企业计划发挥自有的专业技术，针对各种ALD应用中先进薄膜的沉积与清除开发专属解决方案，并将焦点放在晶圆的背面与晶边上。

SEZ公司全球新型技术部门协理Leo Archer表示：「在半导体组件复杂度持续攀升下，IC制程中背面与晶边的薄膜清除扮演愈来愈重要的角色。我们与Aviza的合作将形成互利互惠的局面，因为我们都有充份的能力，能在90奈米以下环境中克服薄膜沉积与洗净所遭遇的各种难题。藉由开发、特性分析、以及重新定义ALD薄膜清除的过程，我们可为顾客提供理想的解决方案，协助他们克服各种先进制程的挑战。」