益華電腦(Cadence)與ASML的MaskTools事業群,宣佈簽署一份為期數年、價值數百萬美元的軟體授權,合作開發先進解析度增進技術(Resolution Enhancement Technology: RET)軟體解決方案。兩家公司將會密切合作,共同開發整合的DFM(Design for Manufacturability)流程。
在此協議下,Cadence益華電腦將會授權並合作開發兩個ASML MaskTools軟體套件:MaskWeaver,一個全晶片RET(full-chip RET)、具有光學鄰近效應修正功能(optical proximity correction,OPC)光罩軟體最佳化解決案,以及LithoCruiser,一個具有微影製程分析功能的軟體最佳化解決方案。
前Cadence益華電腦執行副總裁暨總經理Lavi Lev表示,"微影技術在65奈米與65奈米以下的製程強調的是,設計與微影技術之間一個新層級的互相依賴性。我們的客戶可藉由最先進設計工具與解析度增進技術,來縮短生產時程並增進產量。"有了這個新的協議,Cadence的客戶便可以在ASML MaskTools的開發小組的技術協助下,取得尖端的RET與微影技術模擬軟體。"
ASML MaskTools總裁暨執行長Dinesh Bettadapur表示,"雖然ASML與Cadence益華電腦從不同的技術領域得到客戶的肯定,但雙方擁有許多共同的客戶。Cadence益華電腦是EDA軟體領域中公認的領導者,而ASML MaskTools則在創新的製造技術與軟體產品上成名已久。我們將會一起為晶片設計師與製造廠商提供最完整的DFM產品組合。"