KLA公司今日发布392x和295x光学缺陷检测系统和eDR7380电子束缺陷检视系统。这些全新的检测系统是我们公司的旗舰图案晶圆平台的拓展，其检测速度和灵敏度均获提升，并代表了光学检测的新水准。全新电子束检视系统的创新使其自身价值进一步稳固，并成为缺陷和其来源之间的关键环节。对於先进的3D NAND、DRAM和逻辑积体电路（IC），该产品组合将在其整个产品周期内缩短其上市的时间。

「为了有利润地制造下一代记忆体和逻辑晶片，其所需的制程控制是前所未有的，」KLA国际产品部执行??总裁Ahmad Khan说。「元件结构变得更小、更窄、更高、更深，并且形状更为复杂以及新材料。将缺陷与其他无害的物理变化分开从杂讯中分离出信号 - 已成为一个非常棘手的难题。我很高兴地宣布我们的光学和电子束工程团队开发了一系列创新的系统，将缺陷的检测和检视相连接，这将推动我们的行业继续向前发展。」

392x和295x光学图案晶圆缺陷检测系统在宽带离子照明技术、感测器架构和整合晶片设计资料等方面都取得实质性的进步，其灵敏度、产量和良率相关的缺陷分类等功能都是业界翘楚。因此，与曾经领先业界的前一代产品相比，新系统可以更为迅速地发现缺陷并提升良率，同时提供更为完整的线上监控。 对於包括EUV微影质量控制在内的各种检测应用，392x和295x系统可以提供不同的波长范围并涵盖从浅沟槽隔离到金属化的所有制程层。

凭藉一流的图像质量和通过一次测试获得完整缺陷柏拉图 (pareto)的独特能力，eDR7380电子束晶圆缺陷检视系统可以在开发中更加迅速地发现缺陷来源，同时在生产制造中更快地检测异常并且获取更为准确及执行有效措施的资料。该系统能够对脆弱的EUV微影制程层进行检视。与KLA检测机的独特连接缩短了取得结果的时间，促进了多种的KLA特定应用的使用，并通过智能采样和高效缺陷资料交换提升了检测的灵敏度。

392x、295x和eDR7380系统都可用作为新系统或者从上一代的39xx、29xx或eDR7xxx系统进行升级。 这些系统均具有未来的可扩展性，从而保护晶圆厂的资本投资。

所有新系统都已在全球先进的IC制造厂中安装运行，与其他机台一起共同用於制造创新的电子元件。为了确保晶片制造商所需的高性能和高生产效率，KLA全球综合服务网络将对392x、295x和eDR7380系统提供支持。