Qcept的ChemetriQ 3000提供整片晶圆的快速在线非光学可视性缺陷(NVDs)侦测，包括了有机、无机、金属污染、制程导致的电荷、水渍或其他的非光学可视性缺陷。NVDs无法以光学检测系统探测，在尖端晶圆厂中，占了所有缺陷的30%。

ChemetriQ 3000透过非接触式且非破坏性的技术，检测晶圆表面功函数的变化量。这些变异因子显示出NVDs的所在，可自动转换成整片晶圆的影像并侦测位置档案，能安装至晶圆厂内既有的分析工具上，以进行分类分析。ChemetriQ 3000的敏锐度高达5E9 atoms/cm2(每平方公分上5E9 atoms或二十万个原子分之一)，超越ITRS针对22奈米技术所规范的金属感染物标准。藉由ChemetriQ 3000，晶圆制造商可以更佳的制程监控提高良率，并透过更快的制程优化的方式，加速提升产出良率。