KLA-Tencor公司推出黃光電腦模擬軟體PROLITH 11。能提供使用者評估目前雙次成像技術的工具，協助使用者在設計、材料與製程開發方面符合成本效益，探索光蝕挑戰的替代解決方案。這款新型黃光電腦模擬軟體，同時支援單次成像和浸潤式曝光技術。

KLA-Tencor製程控制資訊部副總裁暨總經理Ed Charrier指出：「由於光蝕複雜度和實驗成本的大幅上揚，電路設計師與晶片製造商必須面對雙次成像光蝕（DPL）帶來的挑戰。要控制這些成本，計算光蝕已成為一項必備的工具。在黃光電腦模擬軟體中，PROLITH 11具備獨具一格的優秀能力，讓工程師能夠探索廣泛領域的設計、材料或製程條件，不必耗費晶圓廠的資源而解決特定問題。」

雙次成像光蝕是透過將圖案分為兩個交錯圖案，來構建先進元件微小線路的一種方法。代表DPL層必須要一個雙光罩組及新的光阻材料，而這會增加製程的複雜性及成本。PROLITH 11讓工程師能以精準度製作這種複雜系統的模型，探索光罩設計、光阻屬性和掃描曝光機、或是所印圖案上的製程參數大小變化等帶來的影響，進而使用該模型對系統進行最佳化。透過PROLITH 11，晶圓廠可避免在產品晶圓上進行耗時又昂貴的實驗，這些實驗不僅會耽誤產品的上市時程，並會產生上千個報廢的加工晶圓。