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imec采用High-NA EUV单次图形化 展示20奈米金属导线电性良率 (2025.03.04)
日前举行的国际光电工程学会（SPIE）先进微影成形技术会议（Advanced Lithography and Patterning Conference）上，比利时微电子研究中心（imec）展示首次在20奈米间距金属导线结构上取得的电性测试（electrical test）结果，这些结构经过高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）的单次曝光之後完成图形化 |
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SPIE棱镜奖颁奖光子工业创新产品 (2025.02.06)
国际光电工程学会 (SPIE) 迈入第17年度，於1月下旬在棱镜奖颁奖典礼上表扬光学及光子学新品。SPIE棱镜奖每年宣扬光子学和光子学相关产业快速成长的轨迹、精彩的最新研发成果以及创新技术 |
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进入High-NA EUV微影时代 (2024.09.19)
比利时微电子研究中心（imec）运算技术及系统／运算系统微缩研究计画的资深??总裁（SVP）Steven Scheer探讨imec与艾司摩尔（ASML）合建的High-NA EUV微影实验室对半导体业的重要性 |
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应材Sculpta图案化解决方案 拓展埃米时代晶片制造能力 (2024.02.29)
随着台湾晶圆代工大厂持续向外扩充版图，并将制程推进至2nm以下，正加速驱动晶片制造厂商进入埃米时代，也越来越受惠於新材料工程和量测技术。美商应用材料公司则透过开发出越来越多采用Sculpta图案成形应用技术，与创新的CVD图案化薄膜、蚀刻系统和量测解决方案 |
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Imec展示高数值孔径EUV生态系统进展 率先导入ASML曝光机 (2024.02.26)
於本周举行的2024年国际光学工程学会（SPIE）先进微影成形技术会议（Advanced Lithography and Patterning Conference）上，比利时微电子研究中心（imec）将呈现在极紫外光（EUV）制程、光罩和量测技术方面取得的进展，这些技术都在为实现高数值孔径（high-NA）EUV微影应用而筹备 |
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imec观点：微影图形化技术的创新与挑战 (2023.05.15)
此篇访谈中，比利时微电子研究中心（imec）先进图形化制程与材料研究计画的高级研发SVP Steven Scheer以近期及长期发展的观点，聚焦图形化技术所面临的研发挑战与创新。 |
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imec开发虚拟晶圆厂 巩固微影蚀刻制程的减碳策略 (2023.03.19)
由国际光学工程学会（SPIE）举办的2023年先进微影成形技术会议（2023 Advanced Lithography and Patterning Conference）上，比利时微电子研究中心（imec）展示了一套先进IC图形化制程的环境影响量化评估方案 |
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最後一块拼图？终极显示技术Micro LED助攻面板业转型 (2023.03.10)
Micro LED未来是否有机会取代Micro OLED。在第一代平面显示器TFT LCD、第二代OLED独霸市场多年後，第三代Micro LED能否接棒演出，甚至带动面板业转型，众人敲碗期待！ |
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imec矽光子平台整合SiN波导 迎击高频宽元件的整合挑战 (2023.01.31)
比利时微电子研究中心（imec）今日受邀至国际光电工程学会（SPIE）美西光电展（Photonics West）举行讲座，同时也宣布其开发之氮化矽（SiN）波导技术与矽光子平台成功进行共整合，且无损高频宽主动元件的性能 |
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imec全球首创高光谱照相系统 锁定动态全彩成像应用 (2023.01.29)
於本周举行的国际光电工程学会（SPIE）美西光电展（Photonics West）上，比利时微电子研究中心（imec）展示全球首款高光谱多感测器照相系统，涵盖可见光与近红外光的波长范围，还兼具高解析度RGB色彩感测器 |
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锁定肿瘤活体细胞侦测 imec开发术中高光谱成像技术 (2023.01.29)
由国际光电工程学会（SPIE）举办的美西光电展（Photonics West）於本周展开，比利时微电子研究中心（imec）在生医光学与生医光电（BiOS）展区提出了活体侦测低级神经胶质细胞（LGG）的医疗影像分析解决方案，有??早期发现生长速度较慢的脑瘤 |
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imec最新High-NA EUV技术进展 加速微影生态系统开发 (2022.04.26)
比利时微电子研究中心（imec）於本周国际光学工程学会（SPIE）举行的先进微影成形技术会议（2022 SPIE Advanced Lithography and Patterning Conference）上展示其High-NA微影技术的重大进展，包含显影与蚀刻制程开发、新兴光阻剂与涂底材料测试，以及量测与光罩技术优化 |
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中国AR/VR业界趋势转变 突显智能眼镜对3D列印镜片强大需求 (2022.03.11)
最近中国的科技巨头腾讯和北京字节跳动科技的人才招聘状况显示，中国AR/VR业界发生了重大的转变，这直接了反映全球正热衷於可实现 AR/VR愿景的技术应用。
随着中国AR/VR市场发展势力日益强盛 |
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CP携手格罗方德开发AR技术平台 打造最小像素单晶片方案 (2021.03.16)
增／混合实境（AR/MR）微型显示器解决方案美国品牌Compound Photonics（CP Display；CP），以及特殊工艺半导体商格罗方德（GF）近日共同宣布，正式确立战略夥伴关系，将携手研发CP微显示器技术平台IntelliPix |
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Luxexcel和WaveOptics合作 开发可客制化的AR处方眼镜 (2021.02.23)
3D列印处方镜片的技术商Luxexcel宣布与光波导和微投影机设计制造商WaveOptics建立合作关系，共同开发一款创新模组，它具备了开发消费性扩增实境 (Augmented Reality, AR)智慧眼镜所需的三个重要元素：3D列印处方镜片、光波导和投影机 |
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安森美半导体针对极微光影像扩展影像产品阵容 (2018.04.10)
安森美半导体（ON Semiconductor）推出Interline Transfer Electron Multiplying CCD（IT EMCCD）影像感测器系列的最新产品，特别针对医疗和科学影像等极微光应用，以及商业和军事应用中的高端监控 |
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3D感测器市场战云密布 (2018.03.20)
3D感测是一深具潜力的技术正处于起飞期，究竟会达到什么样的规模，其实还很难估计。 |
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在线量测针对表徵和控制晶圆接合极度薄化 (2017.10.17)
对於3D-SOC整合技术方案，当Si减薄至5μm以下时会出现多种挑战，因而需要不同的测量技术来表徵整个晶圆的最终Si厚度。本文介绍在极度晶圆薄化制程的探索和开发过程中所使用的在线量测方法 |
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大批量制造的装置叠对方法 (2016.07.06)
本文介绍 DI/FI偏差表征结果和变化来源，并介绍对DI调整馈送 APC 系统的影响。本文回顾该方法在大批量制造（HVM）晶圆厂的实施详情，并在文章最后将讨论该研究的未来方向 |
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Matrix，您的终极OPC (2014.10.17)
制程尺寸的缩短会带来诸多影响，其中之一即传统的OPC将无法在合理的响应时间内实现高图像真实性。我们对此进行研究并提出了一个解决方案，将其命名为Matrix OPC。
首先，我们来探究应用于高阶制程时，传统的光学近似效应修正（OPC）存在的问题 |
