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AI液冷供應鏈下沉 UQD與高潔淨材料需求升溫

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AI伺服器散熱競爭正由冷板與CDU向更細的零組件層級擴散。伸興旗下宇隆布局AI伺服器液冷通用快接頭(UQD),今年出貨逐季升溫,反映Direct-to-Chip液冷進入放量後,快接頭、管路、分歧管及材料可靠度正成為新的供應鏈環節。


UQD看似只是連接元件,實際上卻位於液冷迴路的關鍵介面。典型架構由Facility Water進入CDU,再經Rack Manifold、Hose/QD與Cold Plate帶走GPU、CPU熱量。隨單櫃功率跨過100kW,接頭必須兼顧低壓降、防漏、耐壓、耐腐蝕及快速維修;任何滲漏或流量異常,都可能直接威脅高價AI晶片。


液冷規模也快速大型化。市場已有300kW級CDU,面向高密度AI叢集的系統更朝1MW、1.5MW甚至2.4MW推進;台灣供應鏈也已出現CDU單月出貨量由700至800台提高至1,000台的案例,顯示液冷逐步從驗證轉向規模部署。



圖一 : AI液冷從系統下沉至零組件與材料,而AI機櫃功率飆升,致使液冷商機從CDU擴散到精密零件。
圖一 : AI液冷從系統下沉至零組件與材料,而AI機櫃功率飆升,致使液冷商機從CDU擴散到精密零件。

當流量與熱負載增加,商機也從CDU、Cold Plate往上游材料擴散。高潔淨不鏽鋼、精密管件、Valve、Seal及耐腐蝕材料必須降低雜質、腐蝕與粒子污染,避免微流道堵塞或影響熱交換效率。因此,AI散熱已不再只是散熱模組業者的市場,也開始吸引精密加工、金屬材料與流體控制供應商。


值得注意的是,AI電力與散熱正逐步融合。市場已有業者同時布局800VDC電力架構與MW級CDU,意味下一代AI Factory設計將同步考量Power Density與Thermal Density。


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