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半導體AOI設備研發主管與檢測工程師的必修課
當先進封裝技術演進至以CoWoS、EMIB、Foveros為基礎的2.5D/3D封裝,並結合 HBM邁向以FOPLP為主的CoPoS架構,和CPO共同封裝光學時,封裝的幾何複雜度已逼近物理極限。
隨著特徵尺寸微縮至2μm以下、玻璃基板(TGV)逐漸取代傳統有機材料,從圓形到方形面板、從微米級微縮到CPO光學對位,傳統的AOI系統便須面對極淺景深、隱藏缺陷與巨量影像數據的挑戰,將難以在現有的生產節拍下達成次微米級的檢測要求。
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