专注于高温热制程处理系统及原子层沉积系统的半导体设备厂商Aviza，已经完成整并另一厂商Trikon，在半导体前后段制程技术领域，可以提供更完整的产品线，同时随着DRAM与Flash等内存产品市场规模的提升，将进一步扩大产品的出货量，尤其是在日渐成为全球制造中心的亚太地区市场。

Aviza亚洲区副总裁暨台湾分公司总经理周雷琪

Aviza连续几年都积极参与台湾一年一度的半导体设备展Semicon，因为亚太地区是该公司最大的市场，Aviza亚洲区副总裁暨台湾分公司总经理周雷琪表示，亚洲的营收占该公司从2005年10月的53％，在最近九个月又进一步提升到62％，其中台湾更是最大的单一市场，目前台湾的晶圆厂已经累计采用100多台Aviza的设备。

与技术、产品互补的Trikon合并之后，可以提供更多样化的产品包括：原子层沉积（ALD）、扩散及低压化学气相沉积炉（LPCVD）、常压化学气相沉积（APCVD）、化学气相沉积（CVD）、蚀刻及物理气相沉积（PVD）等产品，全球已安装的机台超过3000台，目前员工已达600人左右。9月份也分别有新加坡的12吋晶圆厂与台湾华亚科技向Aviza订购的热处理系统交货，多应用在DRAM产品与新兴奈米级制程上。

华亚科技采用的产品是过去Aviza与Trikon合作开发的平台，同样的软件平台已被应用于全球各地晶圆厂的化学气相沉积、物理气相沉积和蚀刻系统中，配有一个能提高量产、降低化学物质消耗量和延展制程范围的创新反应室，专利喷头设计可以满足原子层沉积严格的制程要求，包括在300mm晶圆上也可取得小于百分之一的厚度均匀性要求。

而在制程技术的持续微缩之下，传统的沉积技术已经无法应付相关技术需求，所以Aviza的原子层沉积设备预计将受到市场瞩目，65奈米制程以后会有越来越多产品采用原子层沉积技术，预计在45奈米制程世代，原子层沉积技术就会是主流了，尤其是在许多半导体薄膜应用上。周雷琪指出，Aviza除了技术方面的突破之外，更致力于协助客户降低成本。

原子层沉积是一种在基层材料上以化学吸附先导物质的技术，先导物质会按一定顺序注入沉积室内，每种先导物质在完全弥散到基层表面时，都将获得充分的时间，并形成单层先导物质，一但基层表面被完全覆盖后，先导物质的长时间暴露并不会增加膜的厚度，每种先导物质都将被完全清出沉积室，才会注入下一种先导物质，当所有先导物质都被依次注入后，期望的单层模将被沉积。与PVD和CVD的吸附技术相比，其薄膜厚度可达原子级，不过整体处理时间也较长。