盛美半导体设备（上海）股份有限公司，作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装（WLP）应用提供晶圆制程解决方案的领先供应商，今日宣布，其18腔300mm Ultra C VI单晶圆清洗设备已成功投入量产。该设备於2020年第二季度首次推出，目前已在中国一家主流存储晶片制造商的生产线上获得验证并进入量产。

根据盛美上海董事长王晖博士表示：「随着技术节点逐渐缩小，晶片复杂性不断增加，湿法清洗制程所需的步骤也在增长。当前对於半导体晶片的需求空前巨大，相应的产能需求也随之提高，而我们的18腔设备恰好能够满足这一需求的增长。采用Ultra C VI系统设备进行量产，在设备尺寸相同的情况下可提升50%的产能，以更好地满足客户需求。」

18腔300mm Ultra C VI设备可用於聚合物去除、钨或铜制程的清洗、沉积前清洗、蚀刻後和化学机械抛光（CMP）後清洗、深沟槽清洗、RCA标准清洗等多个前道和後道制程。

该设备配备了由多个机械臂组成的高效矽片传输系统，最大产能超过800片/小时。对比盛美现有的12腔设备Ultra C V系统，其腔体数及产能增加了50%，而其设备宽度不变只是设备长度有少量增加。