微机电系统（MEMS）、奈米科技与半导体市场的晶圆接合暨微影技术设备之领导厂商EV Group（EVG）今（17）天宣布和致力於高低折射率涂层材料的制造商Inkron的合作夥伴关系。两间公司将为开发和生产高品质绕射光学元件（DOE）结构提供优化的制程和相符的高折射材料。这些DOE结构包括用於扩增实境、混合实境、虚拟实境（AR/ MR/ VR）元件的波导管，以及在车用、消费性电子和商业应用中的先进光学感测元件，如光束分离器和光束扩散器。

采用Inkron先进树脂的EVG奈米压印微影技术所压印出的光学结构

此合作夥伴关系在位於EVG总部奥地利St. Florian的NILPhotonics技术处理中心内展开。EVG的NILPhotonics技术处理中心为NIL供应链中的客户和合作夥伴提供一个开放式的创新平台，其目的为缩短新创光学元件及其应用的开发周期和产品上市时间。因应该协议的一部分，Inkron为自己的研发机构购买了EVG 7200 NIL系统，以加速新光学材料的开发和验证。EVG 7200系统利用EVG的创新SmartNIL 技术和材料经验，能够大规模量产小至30 nm的微米和奈米级结构，其特色还包含只需用到极小的脱膜力道同时能维持结构不至变形，快速的高功率曝光和平顺的脱模。.

EVG技术开发和IP总监Markus Wimplinger表示：「商用和消费者市场对晶圆级光学元件和感测器的需求正以惊人的速度增长，催生所需的原物料及制程的优化，以达到市场所需的效能及产能。Inkron在光学材料方面拥有广泛的专业知识，并且是高折射和低折射涂层材料的领先制造商之一，Inkron能成为与我们在NILPhotonics技术处理中心合作的理想夥伴。这样的合作能使EVG进一步探索和扩展我们NIL技术的应用和特性，而得以为下一世代光学元件和其终端产品提供可用於量产的解决方案。」

光学元件和组件的材料特性，对已封装的光学元件整体效能及大小有极大影响。举例来说，较高的折射率（RI≥1.9以上）可优化光萃取效能，进而显着提升波导管可见视野，提供给AR/ VR头戴显示器更逼真的体验。高折射率材料还可以提供更高的光密度，使更有效率的绕射光学用於光束分离器（例如脸部辨识的感测器），如此未来的光学元件就可变得更小。高折射材料的附加优化可以改善膜的透明度，并减少雾度和散射，进而提供更好的对比度；而改善的树脂稳定性可以满足更严苛的热要求，如车用方面的需求。

为NIL制程而调配的高折射率材料，有助於确保NIL制程投入量产。NIL是一种已被验证过的光学元件制造方法，因为它能够在保有其经济效益下，於量产中做出奈米级的结构，而且并不受限於特别的尺寸、形状和复杂性。

Inkron执行长Juha Rantala表示：「我们很高兴能与EVG合作，这将加速我们推出更新、更优化和更创新的光学材料技术，这些技术对实现我们客户的关键性能指标有很大的帮助。我们的奈米压印高折射率材料和搭配的填充涂层，再加上EVG领先业界的NIL系统，为光学制造商提供了关键的晶圆级解决方案，这可以让他们的最新产品能更快地进行量产。」

晶圆级光学（WLO）的应用和解决方案

EVG的NIL系统构成了该公司WLO制造解决方案的关键元件，这使得大量新的光感器可用於消费性行动电子产品中，例如包括3D感应、飞行时间、结构光、生物特徵认证、脸部辨识、虹膜扫描、光学指纹、光谱感应、环境感应和红外线成像。其他应用包括车用照明、光地毯、头戴显示器、车内感应和LiDAR（光达），以及用於内视镜摄影机，眼科应用和外科手术机器人的医学成像。EVG的WLO解决方案由该公司NILPhotonics技术处理中心提供。