由歐盟第七期科研架構計畫資助的企業學術聯盟宣佈一項三年期專案圓滿結束，並發佈了設計合成工具流程以及相關的親微影（litho-friendly）單元庫和評估工具。

SYNAPTIC研究專案由來自歐洲和巴西的8家產學機構組成，合作目標是研發以創新的規則化為中心的設計方法和電子設計自動化（EDA，Electronics Design Automation）工具，以降低技術節點升級和先進次波長微影（sub-wavelength lithography）技術對邏輯和物理實現效果的限制。

透過開發新的模式察覺型（pattern-aware）邏輯合成，SYNAPTIC專案為歐洲半導體工業解決了關鍵性問題，如降低系統變異、可製造性設計（DFM，Design for Manufacturing）和改進良率（單元、IP/微距和系統水平）、複雜的面積/性能比及系統級/架構預測和簽核，目標是在先進的奈米技術時代繼續遵循摩爾定律預測的技術節點升級。

SYNAPTIC專案產生的單元庫、工具和設計方法可合成並實現多個基於一套縮小的匹配佈局（layout pattern）同時保持相似的面積、功耗和時間性能的設計。這些研發成果證明，規則化對變異和可製造性的良性影響不會對其它指標造成不利影響。SYNAPTIC開發的良率指標和模型顯示，因為大製程窗口，晶片良率可大幅提高，這將立即轉化為成本效益，提高製造效率，降低光學鄰近效應修正（OPC，Optical Proximity Correction）加工量，加快產品上市。 SYNAPTIC開發的設計流程穩定，設計結果一致，並可支援產業設計評估。

透過成功完成所有階段性開發計劃，在不同的設計開發實現階段和創新的新一類設計合成及單元庫自動生成工具中實現規則化概念，SYNAPTIC專案有助於歐洲半導體工業與全球整合元件製造商（IDMs，Integrated Device Manufacturers）以及遠東代工廠同步發展，提高歐洲半導體和電子設計自動化企業的市場競爭力。

此外，SYNAPTIC在整個專案期間傾力宣傳相關研發活動，提高了全球對歐洲學術界半導體研究的關注度。