2003年12月，半导体微影技术，正式进入另一个技术领域。在此之前，我还以为微影技术仍会照着ITRS（国际半导体技术蓝图）的原先蓝图进展，混然未察觉的是，在这个微寒的冬季，科技有又有重大的进展：「浸润式微影技术」（Immersion Lithography）隆重登场。

微影技术的发展，一直以来都象征着制程的进步、线宽能否再微缩化等等内容，在半导体产业里具有重大的指标意义。针对65奈米以下光罩制作，浸润式微影技术的出现，也代表着旧式制程已渐渐欲振乏力，需要新式技术来解决制作问题。 （相较于业界现有的193奈米的曝光机，需搭配特殊光罩组件，才能支援 65奈米制程。）

然而浸润式微影技术之所以受到产业界重大的关注，除了纳入ITRS外，台积电力拱该微影技术，更使得该技术受到媒体大众的注意。台积电为推动浸润式微影技术，这二年多以来努力推广该技术的可行性，主要是因为台积电的研发结果发现，将193奈米微影设备加入浸润功能后，无需更换193奈米所需之光阻材料，解析度即可产出超过157微影设备的等效波长，达到132奈米设备等级的等效波长。
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