随着对先进晶片的需求激增受到人工智慧（AI）、交通运输和云端基础设施的驱动，半导体产业面临越来越严峻的两难之境：该如何持续其过往的创新步伐，同时减少大量的环境足迹？ 从能源密集的晶圆厂运作，到全氟与多氟??基物质(PFAS)等有害化学物质，晶片制造的环境成本正在增加。与此同时，永续倡议常被视为进步的阻碍，增加对资本设备的要求、提高营运成本，以及带来那些有可能对性能和良率造成更多技术风险的变化。

本文透过在开发周期的早期阶段整合环境考量、改善获取制程级潜在影响数据的途径，以及探索取代高影响力材料和传统制程步骤的替代方案，以探讨永续性可能变成设计叁数而非限制的方法。本文表明，达成环境和商业目标不只在技术上可行，也具备环境正当性，尤其是在资源密集的制造环境。要达到这样的成果必须把永续性结合到引导业界订定决策的设计、工程和商业框架。

当技术进步需要付出代价时
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