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加速导入二维材料 突围先进逻辑元件的开发瓶颈
必用的五大理由与三大挑战

【作者: Iuliana Radu】2021年05月10日 星期一

浏览人次:【5626】

面对开发先进元件时越发严峻的微缩瓶颈,半导体开发人员持续积极寻找创新的材料、元件结构与制程来突破物理限制。二维材料是备受全球瞩目的新兴开发选择,各界尤其看好这类材料在延续逻辑元件微缩进展方面的潜力。



图一 : 半导体开发人员持续积极寻找创新的材料、元件结构与制程来突破物理限制。
图一 : 半导体开发人员持续积极寻找创新的材料、元件结构与制程来突破物理限制。

二维材料,例如二硫化钨(WS2),在未来逻辑晶片的制造上扮演了关键要角。它们具备杰出的材料特性,因此可望实现闸极长度的终极微缩,进而延续逻辑电晶体微缩的发展蓝图。二维材料还可能改变晶片架构的设计思维,带来革命性的巨变,甚至能让紧凑型电晶体相容于后段制程,模糊了前段与后段制程之间的分界。


近年来,实验性二维电晶体的技术成熟度已经大幅提升,而且要将这项技术引进业界的开发途径也在持续拓展。同时,为了提升元件性能,现有的相关技术挑战也在着手解决。
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