隨著晶圓尺寸的逐漸增大，對高精度、大範圍運動控制的需求也顯著提升。本文說明透過雷射干涉儀選用裝設有內建增量式光學尺的商用線型馬達移動平台，搭配驅動控制器進行定位精度的分析與比較，干涉儀所量測到的位移數據將回授到驅動控制器進行即時回饋補償，以確保每次平台移動到定位時的精準度，以驗證其性能優勢。

隨著現今台灣半導體產業持續邁向更高的量測精度、運作效率及系統整合控制，提升奈米級精準定位的需求變得日益迫切。在當今EUV和E-beam技術的快速發展下，實現晶圓、光罩、光學元件等設備是否可以達成奈米級精密定位成為關鍵挑戰。特別是在高速且大範圍的移動應用中，實現奈米級精度不僅要求卓越的運動控制系統，還需能在半導體製程中應對超高真空（UHV）、高潔淨環境和高溫等苛刻條件。
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