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從反向工程角度看2006製程技術展望
 

【作者: Dick James、Dave Treleaven】   2006年05月02日 星期二

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反向還原工程公司提供工程服務,分析競爭激烈市場裏的先進晶片。也因為如此,經常發現產品的內部的技術與製程,可能與市場宣傳的不一致。因此,從反向還原工程的角度,在2006年所看到的電子產業發展,與晶片製造商以及業界專家的觀點可能有所不同。


在本文中,將透過反向還原工程技術從更高的層次展望市場既有技術與市場,內容包括處理器、FPGA與PLD、快閃記憶體、DRAM、CMOS影像感測器以及RF/混合信號晶片。


處理器

2005年業界都為發佈65nm元件整裝待發,尤其在微處理器和消費電子的領域。據說英特爾(Intel)於2005年最後一周發表了雙核「Yonah」奔騰M處理器予系統製造商,最終產品在2006年1月的CES 2006會議上正式發佈。


AMD在製程改進方面沒有那麼積極,他們計畫於2006年下半年推出65nm元件,但同時他們也逐漸加大12吋晶圓廠Fab 36的產量。AMD發展雙核產品已有一段日子,所以並不急於推出新產品,與此同時,他們也不斷改進90nm產品。


說到多核處理器,IBM也開始在準備八核「Cell」處理器的生產,並計畫於2006年第三季量產供應,用於Sony的PlayStation 3。Sony PS3發佈日期現在還不清楚,市場上聽到最近的日期是第二季初在日本發佈。事實上,微軟Xbox 360採用了IBM的三核處理器,以及在即將上市的任天堂Revolution採用雙核處理器,因此未來幾年IBM在遊戲機市場將佔據很強的地位。(圖一)顯示了Xbox 360內部的IBM和ATI處理器,而反向還原工程公司最近亦提供了此處理器之分析。


IBM同時也在其他領域推出「Cell」處理器,將於2006年第二季用於Mercury Computer Systems公司的Dual Blades中。90nm晶片的生產過程將會按計劃進行,不過是否能順利上市就可能是另一回事了。


PS3其他方面也引起了業界的關注,市場傳聞Nvidia設計的繪圖處理器將在Sony/東芝的晶圓廠中採用65nm製程技術生產。PS2使用的繪圖處理器是第一個量產的90nm晶片,但看起來於2006年英特爾似乎是第一家毫不相關的廠商。值得關注的是,松下悄悄宣佈他們將直接從130nm跳到65nm,在新12吋晶圓廠生產DVD控制器。


《圖一 Xbox 360中的IBM CPU(左)和ATI GPU(右圖中較大的晶片)》
《圖一 Xbox 360中的IBM CPU(左)和ATI GPU(右圖中較大的晶片)》

ATI在電子遊戲機市場表現也相當不錯,並得到Xbox 360和Revolution採用,而後者很可能是90nm晶片,但據說2007年將移至TSMC過渡性質的80nm製程,包括Radeon X1300CE(R505)和RV580 GPU,而且可能將在第一季度發佈。他們的X1800今年較晚打入市場,所以市場可能要到第二季或第三季才能看到發佈消息。


富士通加入陣營,用於Transmeta處理器的90nm製程電晶體柵極長度約40nm,所以跟其他晶圓廠相比之下,在65nm前進的路上已經走了一半。他們2005年秋季開始使用65nm製程,但至今尚還不知道2006年會有哪家用戶使用該處理器。Sun將在其雙核SPARC64 VI上與富士通合作,但這將是90nm製程,到2008年再逐漸演變到65nm的VI+。


在無線領域,德州儀器(TI)於2005年發佈了OMAP2處理器系列,並很可能轉到65nm,目前正在達拉斯的晶圓廠生產。高通(Qualcomm)也發佈了第一款用於手機的65nm晶片(出自於TSMC),包括用於CDMA2000和WCDMA等第三代移動電話的MSM6800、MSM6280、MSM6260、MSM6255以及MSM6245方案。而在這些產品發佈後通常需要9~12個月才能開始實際量產,所以市場上要到2006年第三或第四季才能看到這些手機。


FPGA和PLD

這個領域的大部分產品都來自於無晶圓廠半導體廠商,賽靈思(Xilinx)、Altera、Lattice和Actel都在使用代工廠,據說賽靈思和Altera都開始提供65nm樣品(賽靈思產品來自於東芝和UMC,Altera則來自於TSMC)。


Lattice目前的EC、ECP-DSP和XP系列產品都採用130nm,預計2006年將推出90nm SC系列產品,所有都在富士通製造。即使Lattice和富士通將合作延伸到65nm,我們認為到2007年之前也不會有產品推出。富士通130nm製程非常有意思,因是這是在量產製程中唯一使用Dow公司SiLK旋轉低k電介材料的製程技術。


Actel為第四大FPGA供應商,把目標定位於太空市場,所以預計他們不會在技術上有什麼改變,不過將來很可能看到他們推出更多可用於太空及汽車市場的產品。


《圖二 Fujitsu製造的Transmeta Efficeon中的40nm電晶體》
《圖二 Fujitsu製造的Transmeta Efficeon中的40nm電晶體》

快閃記憶體

2005年可以稱為「快閃記憶體年」,我們都看到驚人的增長,歸因於消費電子產品需求增加,如MP3播放器、手機、數位相機等。快閃記憶體技術驅動了製程改進,於2005年三星推出了73nm 4Gbit和8Gbit NAND快閃記憶體(晶片尺寸僅僅只有0.0225μm2),2006年極有可能在市場看到50nm 16Gbit晶片。三星主導了2005年市場,第三季佔有50%市場佔有率,而且還將在2006年延續下去。


《圖三 Samsung 4Gbit NAND快閃記憶體截面圖,顯示單元間距為150nm。》
《圖三 Samsung 4Gbit NAND快閃記憶體截面圖,顯示單元間距為150nm。》

快閃記憶體市場獲得成功,驅動了其他大規模公司都想加入其中,例如,最近英特爾和美光宣佈成立合資企業。美光擁有90nm 2Gbit產品技術,他們想在2006年進入更高密度的70nm製程,目前正將位於弗吉尼亞州Manassas的12吋晶圓廠轉向生產快閃記憶體,這可能是他們2005年第四季成長400%的主要原因。即使如此,他們在市場仍名列第五,占3.4%的市佔率。


東芝是2005年第二大NAND快閃記憶體供應商,第三季市佔率為23%。在對蘋果產品的反向還原分析中,發現東芝與三星的晶片幾乎一樣多。東芝將重點放在多層單元(MLC)快閃記憶體上,每個單元各兩位元,但其代價是周邊電路更加複雜,而且需要嚴格的柵極技術解決電容耦合問題。不過MLC非常適合於成本低的消費性數位音訊解決方案應用,如蘋果的iPod nano。三星以單層單元(SLC)引領市場,對MLC並不重視,但現在這也在其規劃當中,並開始提供產品。


Hynix是第三大快閃記憶體供應商,目前正加速技術,已經在提供90nm 4Gbit和8Gbit產品,並聲稱將於2006年提供70nm 16Gbit產品。


瑞薩科技則在第三季名列第四,據說將暫緩MLC 8Gbit NAND快閃記憶體的生產。不過在與Grandis聯合後,他們宣佈將推出65nm MRAM產品。


DRAM

2006年記憶體技術將從DDR轉向DDR2,製程技術也將從90nm縮至80nm,最先實現的產品是1Gbit晶片。在儲存模組方面,全緩衝DIMM將佔據很大一部分之市佔率。


三星在DRAM製程技術競賽中再次領先市場,他們在儲存元件中使用了創新的隱藏式電晶體,這將使設計製程縮小至80nm。


三星2005年第三季DRAM的市場佔有率為30.6%,其後是Hynix的16.6%,然後是美光15.3%與英飛凌13.5%,Elpida則以7.2%名列第五。


Hynix也推出了90nm DRAM產品,並計畫轉向80nm。美光目前提供110nm產品,但由於對DRAM成本的壓力,因此未來市場上將很快就能看到95nm製程的產品。美光有一項創新性6F2技術可以代替常用的8F2技術,因此可以透過更為先進的技術實現高密度製程。


英飛凌是前五名廠商中唯一採用溝槽DRAM的製造商,眾所周知,英飛凌把記憶體事業部分拆除。在產品方面他們正在提供90nm記憶體,同時也積極開發70nm產品,不過看起來在2006年最多也只能是提供樣品。英飛凌還有一些新技術可提高封裝密度,例如方形溝槽和knobbly高k值電容介質就是其中兩個例子。


Elpida的DRAM產品也全部是90nm製程製造,預計未來將轉向80nm,這可能會發生在2006年下半年。前五大供應商除了自己製造以外,DRAM業務外包也越來越多,這部分也會繼續發展。比如英飛凌和Nanya及合資企業Inotera合作,Elpida也有部分產能來自Powerchip和中國的中芯國際(SMIC)。


《圖四 三星512Mbit DRAM截面圖,圖上顯示了隱藏式陣列電晶體。》
《圖四 三星512Mbit DRAM截面圖,圖上顯示了隱藏式陣列電晶體。》

CMOS影像感測器

照相手機在2005年銷售了約5億支,占全部手機銷量的三分之二。同時照相模組解析度從130萬像素增加到了200萬像素,預計2006年300萬像素手機將成為主流,同時技術也在從電荷耦合元件(CCD)轉向CMOS,這對手機而言是個普遍現象。


所以就像快閃記憶體一樣,目前許多製造商和代工廠都在提供影像感測器製程技術,CCD製造廠商也正積極跨入CMOS領域,其中最引人注意的是柯達宣佈向IBM和TSMC提供授權,並將在這兩家公司的晶圓廠生產300萬和500萬像素之影像感測器。因此在2006年市場上也將見到採用這些影像感測器的終端產品問世,包括手機和數位相機等。


美光相對來說是影像感測器市場的新進入者,他們從130萬像素產品起步,剛開始提供300萬像素的產品,像素尺寸只有2.2μm×2.2μm。另外美光也有500萬像素產品,這些產品將準備應用於數位相機。


Sony是銷售量最大的影像感測器製造商,但過去大部分是CCD製程,目前也正極力增加生產CMOS感測器。2005年Sony的CCD因出現問題而廣被宣傳,由於涉及到多家製造商不同的照相機,所以他們在2006年不得不盡力改善市場地位。目前Sony已有200萬像素的CMOS影像感測器,所以預期他們將不會錯失300萬像素感測器的市場機會,儘管目前尚未預先發佈消息。


東芝2005年在影像感測器市場名列第五,但他們的產品僅用在諾基亞的N90智慧手機中,未來希望能夠聽到更多相關的消息。東芝於2005年秋季推出了320萬像素的影像感測器,因此預計在2006年將可以看到更多終端產品的應用問世,也許會是另一款諾基亞手機。


對於數位相機而言,CMOS正穩健地步入過去CCD佔據的領地,將來預計這種趨勢還將持續下去。佳能(Canon)已將CMOS影像感測器用於高階數位單眼相機中,例如在EOS 5D這款相機上便採用了1280萬像素之24 × 36mm CMOS感測器。


《圖五 諾基亞N90採用的東芝200萬像素CMOS影像感測器照片,以及電晶體分層像素圖。》
《圖五 諾基亞N90採用的東芝200萬像素CMOS影像感測器照片,以及電晶體分層像素圖。》

RF/混合信號

無線通訊市場銷售額非常龐大,將更多功能整合到CMOS中是降低成本最主要的驅動力,但在1~10GHz頻段範圍,有一項功能卻是難以整合的,就是無線接收器的前端放大器。通常稱為RF放大器,或低雜訊放大器(LNA),這些都是在RF頻段工作之元件。


目前大部分LNA採用矽雙極性SiGe(鍺化矽)電晶體或III-V族半導體材料如GaAs(砷化鎵)製成。與標準的CMOS不同,不管SiGe還是GaAs都不能作為大規模量產低成本半導體之製程技術,如果能夠將LNA功能整合到CMOS接收器晶片上,就可以從系統中省去一個昂貴的元件和一個晶片。


這裏所關注的頻率約為1~10GHz,包含了目前以及未來一些市場廣大的應用領域,如IEEE 802.11、WiMAX、W-USB(無線通用串列匯流排)以及手機中的GPS等。


大致說來,製程技術從90nm到65nm的進展可以提高NMOS電晶體在100GHz到130GHz的基本單位增益頻率回應(ft)。在許多RF設計中,電晶體的ft要求至少是應用頻率的10倍,因此製程技術從90nm轉向65nm將使CMOS線路在1~10GHz的重要商用頻段大幅提高速度。


在過去,RF/混合信號製程較先進的邏輯製程落後,但是將手機RF前端整合到CMOS,所得到的成本節省可能會影響這些產品,使其導入65nm製程的速度比預期還要快。無線USB是另外一種應用,工作在3.1到10.6GHz頻段,正好是65nm技術支援的頻段,加上更低的整體功耗等優點,能更快加速製程技術的轉化。


例如TSMC希望65nm製程可以將標準電晶體密度增加兩倍,邏輯速度加快約50%,待機功耗降低20%。博通、高通和飛思卡爾都利用TSMC最初的65nm晶圓光罩共乘服務系統(Cybershuttle),進行早期晶片開發製造,而TI則聲稱已經具備65nm無線產品樣品。


儘管在2006年初市場上尚無法看到下游設備廠商使用65nm RF晶片,但在成本的驅動下,2006年底將會有部份產品上市。


結語

儘管65nm邏輯產品推出以後吸引了媒體的目光,但實際上業界還有很多其他領域值得關注,至少有一點可以肯定:2006的製程技術將會非常有趣!


(作者為Chipworks高級技術分析師)


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