亞舍立科技（Axcelis Technologies）供應先進半導體製程設備，包括離子植入（Ion Implant）、快速熱處理（RTP）、清洗（Cleaning）與固化（Curing）等設備。其業務涵蓋全球前20大的晶片製造商，並與日本住友重工SHI合資（50％-50％）設立日本SEN Corporation以服務日本市場。目前並積極佈局全球以及亞太市場。

《圖一　Axcelis資深行銷副總裁Mark Namaroff》

Axcelis資深行銷副總裁Mark Namaroff表示，Axcelis所推出的Optima HD離子植入設備，是專為傳統高劑量離子植入及65nm以下元件製造應用擴展而開發的離子植入設備。Optima HD離子植入設備的特點是離子能量低，高劑量系統可為市場提供從200eV到80keV的最寬的能量範圍，有助於客戶覆蓋所有傳統高劑量植入設備，同時可為重要的中劑量應用提供最多的功能性和投資效率。Optima HD也支援形成雙重多晶（dual poly）門和矽絕緣體應用分子和氫的植入，可以提高設備的速度和性能。

Axcelis的表示，Optima HD是市場上最精確、通用和具備高劑量植入生產能力的設備。與Optima平台一樣，當市場進入65nm以下製程技術時，Axcelis便設計了Optima HD，以滿足電晶體製作過程中所發生的基本變化。Optima HD的問世證明了Axcelis的策略正確，也就是開發可擴展的植入技術，為大多數客戶提供滿足當前需求的最大靈活性，同時應對新一代電晶體設計和元件結構方面新的挑戰。

Axcelis的Optima HD採用先進的點束技術，可提供精確的植入，這將保證晶圓上的所有點在相同的角度得到同樣的光束，從而獲得優異的植入重複性。此外，該系統採用了Axcelis專有的RadiusScan技術，這是一種可提高生產效率並使系統覆蓋各種劑量範圍的硬體功能，有助於滿足客戶傳統的和新出現的高劑量植入需求。

採用Imax的新型Optima HD適用於先進記憶體和邏輯元件的極高劑量、低能量植入應用。Optima HD Imax是該公司對於新款Optima HD平台的擴展，有助於用戶大幅度提高生產效率和降低能量；其高劑量技術時間採用了硼簇植入，取代了單一原子逐一植入。而該公司第一台具備Imax功能的Optima HD設備也預計將在年底前出貨。

Mark Namaroff認為，Optima HD符合所有先進邏輯元件和尖端DRAM開發及生產的製程條件，其與Imax也提供了最高的飄移（Drift mode）離子束電流，耗能低且沒有能量污染風險。此平台符合量產條件的離子流量可真正實現大量生產，且運用RadiusScan技術可使Optima HD在低劑量的應用，於最大產出時仍確保植入的均勻度。