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晶圆级封装产业现况
 

【作者: 陳浩彰】2006年11月23日 星期四

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前言

随着摩尔定律不断地向前推进,半导体制程尺寸不断地微缩,伴随而来的就是晶片内含的逻辑闸数目急速上升,同时对外的信号接脚数目也往上提高,信号传输时脉也相对应上升。另外消费电子流行方兴未艾,半导体晶片制程也越来越微细化,因此晶片封装技术亦不断地在进展当中。


最早期半导体晶片使用DIP(Dual in-line)封装技术,采用引脚插入技术(PTH;Pin Through Hole)。随着IO接脚数目需求提高,双边都有接脚的DIP封装技术不敷需求,采用SMT技术的QFP(Quad Flat Package)封装技术开始风行,其接脚数目可以在晶片四周布置,大幅提高接脚数目,而需要更多接脚数目的CPU应用,则是以接脚以阵列的方式置放于晶片之下,接脚的配置由线扩大为面的安排,大幅增加了IO接脚数目。并且随着CPU操作时脉的提升,具备较佳操作时脉的BGA封装技术开始被使用。加上手机通讯消费电子产品的推波助澜,轻薄短小与省电的设计日新月异,连带使封装后面积更小的CSP(Chip Scale Package)更加盛行,进而带动了IC载板厂商业绩大幅成长。展望未来,同时兼具轻薄短小、省电、高操作时脉的晶圆级封装技术,即将是下一阶段的封装主流。


晶圆级封装(WLP;Wafer Level Package)系由IBM于1960年代开始发展,用以解决晶片封装体积与电气特性等等问题。时至今日,晶圆级封装的优势不仅如此,其技术包括与CSP相关的WLCSP、W-CSP、Ultra-CSP、Polymer Collar CSP等等,以及与SiP相关的MCP、MCM、3D封装等等。若以单纯晶圆级的CSP封装来看,就具有体积小、耗电量低等优点。而以属于系统层次应用的晶圆级封装SiP来看,SiP除了上述优点之外,尚具有具体实现SoC的能力。透过SiP技术的帮助,不同应用的晶片可以各自采用有利的制程技术制作;并在晶圆阶段,就先行以导线连接,封装之后的半导体晶片就是一个具体而微的SoC晶片。


晶圆级封装技术

传统的晶片封装必须在晶片制作完成后,始能往后交由封装厂商进行封装与测试,晶圆级封装技术的精神在于晶圆制作的过程往后延伸,将晶片封装的制程纳入晶圆制作的过程,在整片晶圆的制作过程中,及先行予以封装、测试,再切割成个别的晶粒,因此可以达到与晶圆相同的晶片体积(1:1),是目前单一晶片体积最小的封装技术。


晶圆级封装技术不需要打线(wirebonding)、导线架(leadframe),整片晶圆透过凸块(Bumping)或锡球(Ball)与电路版相连,也就是所谓BOP(Bump On Pad)设计。欲焊接的凸块系直接连结在晶圆的I/O接点,此种设计晶片封装的过程,不需要额外使用IC载板(Substrate),也不需要中介层(Interposer)或填充物(Underfill ),只有为了维持整个晶圆级封装的机构稳定,另外必须加入PI(Polymide)来增加封装的稳定度。


传统封装的焊点将接点连结至被动层,必须与晶片的I/O接点一致,导致了封装设计的弹性杜大为降低,如(图一)所示。


《图一 传统封装(连截至被动层)》
《图一 传统封装(连截至被动层)》

<注:资料来源:Future-Fab>


晶圆级封装为了能有更好的接点设计弹性,必须将晶圆的I/O接点,重新导向至更为方便的区域,晶圆级封装为了要达到此种新的连线方式,大部分的晶圆级封装都使用了重新配层设计(RDL;Re-Distributed Layer)。透过重新配层设计,原始的晶片设计图层可以转换为新的图层,如(图二)所示。


《图二 RDL技术的晶圆级封装(不需与被动层相连)》
《图二 RDL技术的晶圆级封装(不需与被动层相连)》

<注:资料来源:Future-Fab>


RDL技术使得原本晶片中的绕线由周边分布的接点位置,转换为面的接点位置分布,同时可以将这些接点位置安排在晶粒的有效区。


晶圆级封装把许多制作过程加以简化,因此可以降低封装测试的厂商数目。传统的封装流程必须先由晶圆厂制作出晶圆,在晶圆的阶段作测试,打线,再做测试,送交封装厂做封装与测试,再由系统厂使用。晶圆级封装制程大幅缩短封装制作的流程:晶圆厂制作好晶圆之后,交由晶圆级封装服务厂商封装测试,成品即可转交由系统厂使用,可缩减供应链厂商时间与协调除错的过程,如(图三)所示。



《图三 传统封装流程与晶圆级封装流程》
《图三 传统封装流程与晶圆级封装流程》

SiP封装技术

SiP封装技术在实际制作时,通常有两种作法,一种方式是用并排(Side by side),将多颗晶片排在一起封装起来,另一种堆叠(Stack),则是将多颗晶片堆叠起来,组合成一个完整的系统,如(图四)所示。


《图四 并排与堆栈式SiP示意图》
《图四 并排与堆栈式SiP示意图》

<注:资料来源:Renesas>


并排式的SiP与堆叠式的SiP主要的特点如下:首先以封装的大小来看,堆叠式的SiP封装受惠于晶片堆叠后较节省面积的特色,封装后的晶片大小约在16mm以下,而并列式的SiP封装因为晶片并排排列,无法将面积进一步缩小,封装后的晶片面积约为16~34mm。堆叠式SiP面积较小,较适合应用在轻薄短小的消费电子产品,包括数位摄影机(DVC)、数位相机(DSC)与手机等行动装置。应用封装产品多为记忆体产品,藉由堆叠式封装,可以将数种不同型态的记忆体如快闪记忆体(NAND Flash或Nor Flash)、DDR记忆体等封装在一起,节省体积并加快操作时脉与节省电源消耗。另外为了将更大容量的记忆体塞进手机,堆叠式封装的堆叠层数将不断向上递增,2004年堆叠的层数约为2层,2006年堆叠层数已有5层,预计2007年堆叠层数可达到10层,同时堆叠式封装的晶片尺寸也将由2004年的2mm,降低到2007年的1.5mm。


并排式SiP封装较适合应用于对体积要求较低的产品,如印表机、数位电视、数位光碟机、影像感测器、车用电子等等。一般而言,并排式SiP制作成本比堆叠式SiP低,如(图五)所示。



《图五 并列与堆栈式SiP应用领域与封装尺寸示意图》
《图五 并列与堆栈式SiP应用领域与封装尺寸示意图》

<注:资料来源:Renesas>


晶圆级封装制程由于少了点胶(Underfilling)制程与载板(Interposer)的使用,因此较原本的覆晶封装制程成本为低,不过初期具有量产晶圆级封装技术的厂商较少,尽管绝对成本相对低廉,但仍须加强晶圆级封装制程良率的提升,才能在成本上与覆晶封装一较高下。


应用市场

根据TechSearch的研究资料显示,封装后体积较小的覆晶封装Flip Chip与晶圆级封装WLCSP在未来数年将持续成长,2006年时WLCSP晶片封装需求约有将近8000百万个,预计在2009年,WLCSP将迅速成长至接近16000百万个,如(图六)所示。



《图六 晶圆级封装市场》
《图六 晶圆级封装市场》

<注:资料来源:TechSearch,Future-Fab>


SiP封装技术应用主要在手机,应用必须考量整体系统设计的体积、散热、耗电、成本与设计弹性。以往的设计基础是利用CSP的封装技术,让处理器或是记忆体晶片各自缩小体积,但在更高阶的体积与设计弹性要求下,POP(Package On Package;封装堆叠)技术因应而生。记忆体与处理器晶片透过JEDEC POP的技术规范,确保彼此在POP封装后的可靠性,同时兼顾到体积、成本与设计弹性。另外还有采取COC(Chip on Chip;晶片堆叠)的方式,也能缩小封装后的晶片体积。


WLCSP封装主要应用在记忆体封装,传统用于记忆体封装的技术包括TSOP、F-BGA、wBGA、BLP等等。 WLCSP因为晶片可以直接与系统板接合,导线路径较短,因此也能减低信号传递延迟时间、提升工作时脉。根据TwinMOS资料显示,TSOP封装可适用于工作时脉为200MHz以下的记忆体、F-BGA可适用于250MHz、wBGA和BLP封装可适用400MHz的工作频率,WLCSP封装技术可应用在800MHz,如(图七)所示。


《图七 各种封装技术的内存工作频率》
《图七 各种封装技术的内存工作频率》

<注:资料来源:TwinMOS>


影像感测器的应用也极具潜力,从数位相机到照相手机,未来还有车用影像感测器与安全监控用感测器的市场。目前手机用的照相模组(CCM)所使用的技术主要有COB(Chip On Board)以及CSP后者便采晶圆级封装WLCSP。照相模组亦即把影像感测器与镜片组合出货,由于CSP制作的影像感测器外部有玻璃将感测器密封,因此对外界环境的洁净度要求较低,故使用CSP制程技术的影像感测器,制程简单、设备要求较低,良率也较高。至于COB制程技术的影像感测器,由于没有玻璃覆盖,因此对制程的洁净度要求较高,良率水准较不易达到,如(图八)所示。



《图八 WLCSP与COB技术制作的影像传感器模块示意图》
《图八 WLCSP与COB技术制作的影像传感器模块示意图》

<注:资料来源:TRI、作者整理>


另外在微机电(Micro-Electro-Mechanical System;MEMS)的应用,是以晶圆等级制作出机电整合的元件,微机电的目标是将电子系统与机械系统整合起来放在晶片内。由于牵涉电子与机械系统的​​整合,微机电的晶片制作与封装测试就比纯电子系统复杂。为了轻薄短小,微机电系统通常使用晶圆级封装测试技术,根据统计,微机电制程中封装测试成本便超过50%。


厂商动态

以TI推出的处理器来看,对于记忆体的搭配采取POP(Package On Package;堆叠封装)技术,把各种不同厂牌的记忆体与TI的处理器相连,两者之间以封装材料相隔,透过POP设计,TI的处理器可更弹性地支援各家记忆体。 Spansion与Freescale在手机晶片密切合作,,Spansion的记忆体符合JEDEC POP的技术标准,与飞思卡尔的处理器进行共同采用POP封装形式。另外Samsung所推动的OneNAND,藉由MCP(Multi Chip Package)技术,结合NAND flash、NOR flash、SRAM Buffer,可以达到更高的操作速度,与更小的晶片体积,提供系统设计者单纯的记忆体设计规格,如(图九)所示。



《图九 OneNAND示意图》
《图九 OneNAND示意图》

<注:资料来源:Samsung>


NEC所推出的SiP技术,采用SMAFTI(SMArt connection with Feed-Through Interpose;具馈通中介层的智慧连接)封装技术,主要属于3D封装技术,作用是将逻辑晶片与记忆体晶片经由堆叠技术叠放在一起,可以连接高达1000条以上的连接线。进行实体层的3D连线,因为导致逻辑晶片与记忆体晶片间电气讯号延迟的连线,在封装前即已经由3D导线实体连接,故能解决大部分记忆体于高频运作时令人困扰的时脉延迟问题,如(图十)所示。



《图十 NEC的SMAFTI封装技术示意图》
《图十 NEC的SMAFTI封装技术示意图》

<注:资料来源:NEC>


NEC封装技术实际制作过程如下:


  • ●先在第一片晶圆之上制作出导线,也就是馈通中介层(FTI;Feed-Through Interpose);


  • ●将记忆体晶片覆盖于其上方,同时与第一步刻出的导线连接并打线;


  • ●将整个晶片密封;


  • ●去除掉下方的晶圆;


  • ●将逻辑晶片附于馈通中介层,并作植球的动作,整个封装制程即完成,如(图十一)所示。



《图十一 SMAFTI制作流程》
《图十一 SMAFTI制作流程》

此外,SanDisk在买下Matrix后正式进入3D封装技术晶片的生产行列。 Matrix原本专精以3D封装技术制作一次性写入快闪记忆体(OTP Flash),采用3D堆叠技术制作的手机用记忆体,适合于现在手机快闪记忆体的应用需求。未来SanDisk将有机会继续将3D封装技术的应用领域,从一次性写入快闪记忆体,扩展到多次性可读写的快闪记忆体领域,进一步将快闪记忆体的储存容量往上提升。


结语

封装技术的发展日新月异,晶片设计已经进入了奈米时代,封装也由传统配角的角色,渐渐跃居晶片设计的重要环节。 WLCSP不仅仅让晶片体积缩小,得以满足消费电子的需求,SiP封装更能使各种不同制程的晶片,顺利整合为成单颗,达到SoC的设计精神。展望未来,许多新领域应用如微机电与生物晶片领域,必须要有更先进的封装制程配合,因此封装技术将是未来新应用领域的主要挑战。


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