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晶圓級封裝產業現況
 

【作者: 陳浩彰】   2006年11月23日 星期四

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前言

隨著摩爾定律不斷地向前推進,半導體製程尺寸不斷地微縮,伴隨而來的就是晶片內含的邏輯閘數目急速上升,同時對外的信號接腳數目也往上提高,信號傳輸時脈也相對應上升。另外消費電子流行方興未艾,半導體晶片製程也越來越微細化,因此晶片封裝技術亦不斷地在進展當中。


最早期半導體晶片使用DIP(Dual in-line)封裝技術,採用引腳插入技術(PTH;Pin Through Hole)。隨著IO接腳數目需求提高,雙邊都有接腳的DIP封裝技術不敷需求,採用SMT技術的QFP(Quad Flat Package)封裝技術開始風行,其接腳數目可以在晶片四周布置,大幅提高接腳數目,而需要更多接腳數目的CPU應用,則是以接腳以陣列的方式置放於晶片之下,接腳的配置由線擴大為面的安排,大幅增加了IO接腳數目。並且隨著CPU操作時脈的提昇,具備較佳操作時脈的BGA封裝技術開始被使用。加上手機通訊消費電子產品的推波助瀾,輕薄短小與省電的設計日新月異,連帶使封裝後面積更小的CSP(Chip Scale Package)更加盛行,進而帶動了IC載板廠商業績大幅成長。展望未來,同時兼具輕薄短小、省電、高操作時脈的晶圓級封裝技術,即將是下一階段的封裝主流。


晶圓級封裝(WLP;Wafer Level Package)係由IBM於1960年代開始發展,用以解決晶片封裝體積與電氣特性等等問題。時至今日,晶圓級封裝的優勢不僅如此,其技術包括與CSP相關的WLCSP、W-CSP、Ultra-CSP、Polymer Collar CSP等等,以及與SiP相關的MCP、MCM、3D封裝等等。若以單純晶圓級的CSP封裝來看,就具有體積小、耗電量低等優點。而以屬於系統層次應用的晶圓級封裝SiP來看,SiP除了上述優點之外,尚具有具體實現SoC的能力。透過SiP技術的幫助,不同應用的晶片可以各自採用有利的製程技術製作;並在晶圓階段,就先行以導線連接,封裝之後的半導體晶片就是一個具體而微的SoC晶片。


晶圓級封裝技術

傳統的晶片封裝必須在晶片製作完成後,始能往後交由封裝廠商進行封裝與測試,晶圓級封裝技術的精神在於晶圓製作的過程往後延伸,將晶片封裝的製程納入晶圓製作的過程,在整片晶圓的製作過程中,及先行予以封裝、測試,再切割成個別的晶粒,因此可以達到與晶圓相同的晶片體積(1:1),是目前單一晶片體積最小的封裝技術。


晶圓級封裝技術不需要打線(wirebonding)、導線架(leadframe),整片晶圓透過凸塊(Bumping)或錫球(Ball)與電路版相連,也就是所謂BOP(Bump On Pad)設計。欲焊接的凸塊係直接連結在晶圓的I/O接點,此種設計晶片封裝的過程,不需要額外使用IC載板(Substrate),也不需要中介層(Interposer)或填充物(Underfill),只有為了維持整個晶圓級封裝的機構穩定,另外必須加入PI(Polymide)來增加封裝的穩定度。


傳統封裝的焊點將接點連結至被動層,必須與晶片的I/O接點一致,導致了封裝設計的彈性杜大為降低,如(圖一)所示。


《圖一 傳統封裝(連截至被動層)》
《圖一 傳統封裝(連截至被動層)》

<註:資料來源:Future-Fab>


晶圓級封裝為了能有更好的接點設計彈性,必須將晶圓的I/O接點,重新導向至更為方便的區域,晶圓級封裝為了要達到此種新的連線方式,大部分的晶圓級封裝都使用了重新配層設計(RDL;Re-Distributed Layer)。透過重新配層設計,原始的晶片設計圖層可以轉換為新的圖層,如(圖二)所示。


《圖二 RDL技術的晶圓級封裝(不需與被動層相連)》
《圖二 RDL技術的晶圓級封裝(不需與被動層相連)》

<註:資料來源:Future-Fab>


RDL技術使得原本晶片中的繞線由周邊分佈的接點位置,轉換為面的接點位置分佈,同時可以將這些接點位置安排在晶粒的有效區。


晶圓級封裝把許多製作過程加以簡化,因此可以降低封裝測試的廠商數目。傳統的封裝流程必須先由晶圓廠製作出晶圓,在晶圓的階段作測試,打線,再做測試,送交封裝廠做封裝與測試,再由系統廠使用。晶圓級封裝製程大幅縮短封裝製作的流程:晶圓廠製作好晶圓之後,交由晶圓級封裝服務廠商封裝測試,成品即可轉交由系統廠使用,可縮減供應鏈廠商時間與協調除錯的過程,如(圖三)所示。



《圖三 傳統封裝流程與晶圓級封裝流程》
《圖三 傳統封裝流程與晶圓級封裝流程》

SiP封裝技術

SiP封裝技術在實際製作時,通常有兩種作法,一種方式是用並排(Side by side),將多顆晶片排在一起封裝起來,另一種堆疊(Stack),則是將多顆晶片堆疊起來,組合成一個完整的系統,如(圖四)所示。


《圖四 並排與堆疊式SiP示意圖》
《圖四 並排與堆疊式SiP示意圖》

<註:資料來源:Renesas>


並排式的SiP與堆疊式的SiP主要的特點如下:首先以封裝的大小來看,堆疊式的SiP封裝受惠於晶片堆疊後較節省面積的特色,封裝後的晶片大小約在16mm以下,而並列式的SiP封裝因為晶片並排排列,無法將面積進一步縮小,封裝後的晶片面積約為16~34mm。堆疊式SiP面積較小,較適合應用在輕薄短小的消費電子產品,包括數位攝影機(DVC)、數位相機(DSC)與手機等行動裝置。應用封裝產品多為記憶體產品,藉由堆疊式封裝,可以將數種不同型態的記憶體如快閃記憶體(NAND Flash或Nor Flash)、DDR記憶體等封裝在一起,節省體積並加快操作時脈與節省電源消耗。另外為了將更大容量的記憶體塞進手機,堆疊式封裝的堆疊層數將不斷向上遞增,2004年堆疊的層數約為2層,2006年堆疊層數已有5層,預計2007年堆疊層數可達到10層,同時堆疊式封裝的晶片尺寸也將由2004年的2mm,降低到2007年的1.5mm。


並排式SiP封裝較適合應用於對體積要求較低的產品,如印表機、數位電視、數位光碟機、影像感測器、車用電子等等。一般而言,並排式SiP製作成本比堆疊式SiP低,如(圖五)所示。



《圖五 並列與堆疊式SiP應用領域與封裝尺寸示意圖》
《圖五 並列與堆疊式SiP應用領域與封裝尺寸示意圖》

<註:資料來源:Renesas>


晶圓級封裝製程由於少了點膠(Underfilling)製程與載板(Interposer)的使用,因此較原本的覆晶封裝製程成本為低,不過初期具有量產晶圓級封裝技術的廠商較少,儘管絕對成本相對低廉,但仍須加強晶圓級封裝製程良率的提升,才能在成本上與覆晶封裝一較高下。


應用市場

根據TechSearch的研究資料顯示,封裝後體積較小的覆晶封裝Flip Chip與晶圓級封裝WLCSP在未來數年將持續成長,2006年時WLCSP晶片封裝需求約有將近8000百萬個,預計在2009年,WLCSP將迅速成長至接近16000百萬個,如(圖六)所示。



《圖六 晶圓級封裝市場》
《圖六 晶圓級封裝市場》

<註:資料來源:TechSearch,Future-Fab>


SiP封裝技術應用主要在手機,應用必須考量整體系統設計的體積、散熱、耗電、成本與設計彈性。以往的設計基礎是利用CSP的封裝技術,讓處理器或是記憶體晶片各自縮小體積,但在更高階的體積與設計彈性要求下,POP(Package On Package;封裝堆疊)技術因應而生。記憶體與處理器晶片透過JEDEC POP的技術規範,確保彼此在POP封裝後的可靠性,同時兼顧到體積、成本與設計彈性。另外還有採取COC(Chip on Chip;晶片堆疊)的方式,也能縮小封裝後的晶片體積。


WLCSP封裝主要應用在記憶體封裝,傳統用於記憶體封裝的技術包括TSOP、F-BGA、wBGA、BLP等等。WLCSP因為晶片可以直接與系統板接合,導線路徑較短,因此也能減低信號傳遞延遲時間、提升工作時脈。根據TwinMOS資料顯示,TSOP封裝可適用於工作時脈為200MHz以下的記憶體、F-BGA可適用於250MHz、wBGA和BLP封裝可適用400MHz的工作頻率,WLCSP封裝技術可應用在800MHz,如(圖七)所示。


《圖七 各種封裝技術的記憶體工作時脈》
《圖七 各種封裝技術的記憶體工作時脈》

<註:資料來源:TwinMOS>


影像感測器的應用也極具潛力,從數位相機到照相手機,未來還有車用影像感測器與安全監控用感測器的市場。目前手機用的照相模組(CCM)所使用的技術主要有COB(Chip On Board)以及CSP後者便採晶圓級封裝WLCSP。照相模組亦即把影像感測器與鏡片組合出貨,由於CSP製作的影像感測器外部有玻璃將感測器密封,因此對外界環境的潔淨度要求較低,故使用CSP製程技術的影像感測器,製程簡單、設備要求較低,良率也較高。至於COB製程技術的影像感測器,由於沒有玻璃覆蓋,因此對製程的潔淨度要求較高,良率水準較不易達到,如(圖八)所示。



《圖八 WLCSP與COB技術製作的影像感測器模組示意圖》
《圖八 WLCSP與COB技術製作的影像感測器模組示意圖》

<註:資料來源:TRI、作者整理>


另外在微機電(Micro-Electro-Mechanical System;MEMS)的應用,是以晶圓等級製作出機電整合的元件,微機電的目標是將電子系統與機械系統整合起來放在晶片內。由於牽涉電子與機械系統的整合,微機電的晶片製作與封裝測試就比純電子系統複雜。為了輕薄短小,微機電系統通常使用晶圓級封裝測試技術,根據統計,微機電製程中封裝測試成本便超過50%。


廠商動態

以TI推出的處理器來看,對於記憶體的搭配採取POP(Package On Package;堆疊封裝)技術,把各種不同廠牌的記憶體與TI的處理器相連,兩者之間以封裝材料相隔,透過POP設計,TI的處理器可更彈性地支援各家記憶體。Spansion與Freescale在手機晶片密切合作,,Spansion的記憶體符合JEDEC POP的技術標準,與飛思卡爾的處理器進行共同採用POP封裝形式。另外Samsung所推動的 OneNAND,藉由MCP(Multi Chip Package)技術,結合NAND flash、NOR flash、SRAM Buffer,可以達到更高的操作速度,與更小的晶片體積,提供系統設計者單純的記憶體設計規格,如(圖九)所示。



《圖九 OneNAND示意圖》
《圖九 OneNAND示意圖》

<註:資料來源:Samsung>


NEC所推出的SiP技術,採用SMAFTI(SMArt connection with Feed-Through Interpose;具饋通中介層的智慧連接)封裝技術,主要屬於3D封裝技術,作用是將邏輯晶片與記憶體晶片經由堆疊技術疊放在一起,可以連接高達1000條以上的連接線。進行實體層的3D連線,因為導致邏輯晶片與記憶體晶片間電氣訊號延遲的連線,在封裝前即已經由3D導線實體連接,故能解決大部分記憶體於高頻運作時令人困擾的時脈延遲問題,如(圖十)所示。



《圖十 NEC的SMAFTI封裝技術示意圖》
《圖十 NEC的SMAFTI封裝技術示意圖》

<註:資料來源:NEC>


NEC封裝技術實際製作過程如下:


  • ●先在第一片晶圓之上製作出導線,也就是饋通中介層(FTI;Feed-Through Interpose);


  • ●將記憶體晶片覆蓋於其上方,同時與第一步刻出的導線連接並打線;


  • ●將整個晶片密封;


  • ●去除掉下方的晶圓;


  • ●將邏輯晶片附於饋通中介層,並作植球的動作,整個封裝製程即完成,如(圖十一)所示。



《圖十一 SMAFTI製作流程》
《圖十一 SMAFTI製作流程》

<註:資料來源:NEC>


此外,SanDisk在買下Matrix後正式進入3D封裝技術晶片的生產行列。Matrix原本專精以3D封裝技術製作一次性寫入快閃記憶體(OTP Flash),採用3D堆疊技術製作的手機用記憶體,適合於現在手機快閃記憶體的應用需求。未來SanDisk將有機會繼續將3D封裝技術的應用領域,從一次性寫入快閃記憶體,擴展到多次性可讀寫的快閃記憶體領域,進一步將快閃記憶體的儲存容量往上提昇。


結語

封裝技術的發展日新月異,晶片設計已經進入了奈米時代,封裝也由傳統配角的角色,漸漸躍居晶片設計的重要環節。WLCSP不僅僅讓晶片體積縮小,得以滿足消費電子的需求,SiP封裝更能使各種不同製程的晶片,順利整合為成單顆,達到SoC的設計精神。展望未來,許多新領域應用如微機電與生物晶片領域,必須要有更先進的封裝製程配合,因此封裝技術將是未來新應用領域的主要挑戰。


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