Mentor Graphics（明导）宣布与GLOBALFOUNDRIES合作，认证Mentor RTL到GDS平台（包括RealTime Designer物理RTL合成解决方案和Olympus-SoC布局布线系统）能够完全适用于当前版本的GLOBALFOUNDRIES 22FDX平台设计参考流程。此外，Mentor和GLOBALFOUNDRIES还合作开发适用于22FDX平台的制程设计套件（PDK）。该PDK支援Mentor Calibre平台，涵盖适用于22FDX平台的设计规则检查（DRC）、版图与电路图比较（LVS）和金属填充解决方案。这些解决方案可帮助双方客户利用22FDX 技术中的功能来管理功耗、效能和电流泄漏，优化他们的设计。

Mentor与GLOBALFOUNDRIES合作开发适用于22FDX平台的设计参考流程和制程设计套件。

GLOBALFOUNDRIES业务开发副总裁Pankaj Mayor表示：「我们与Mentor Graphics密切合作，使其产品能够帮助客户落实22FDX平台的优势。Mentor工具用于实作流程和设计验证的认证，将帮助设计人员实现功耗、效能和成本之间的最佳平衡。」

在先进技术的设计流程中，RealTime Designer可以满足诸多需求，包括更高容量、更快执行时间、改进结果品质（QoR）和结合布局规划功能。尤其是对于22FDX平台而言，它支援对基于统一功率格式（UPF）、多Vt优化、电流泄漏和动态功率分析及优化、独特的RTL级别布局规划技术的多VDD 设计，从而改进QoR和执行时间。 Olympus-SoC工具能够全面解决使用先进技术时在性能、容量、上市时间、功率和可变性方面遇到的难题。支援22FDX包括低功率功能，例如多VDD 流程、并行多边多模时序和功率优化、前向和反向偏置处理、在电网上插入DCAP单元以减少噪音。

Mentor Graphics的IC实作部门总经理Pravin Madhani表示：「我们的客户要设计一些适用于移动、无线、网路和图形产品的最复杂晶片。与GLOBALFOUNDRIES合作，使我们能为双方共同客户提供适用于22FDX平台的先进数位实作流程。

Calibre nmDRC、Calibre nmLVS和Calibre Yield Enhancer工具提供可用于22FDX PDK的验证功能。核心的DRC和LVS验证是由Calibre nmDRC 和Calibre nmLVS工具提供。 Calibre YieldEnhancer 工具中的SmartFill功能可藉由智慧自动方式填充设计,提供填充形状的最佳分布和布局,从而帮助设计人员达到平坦度和密度要求,减少填充后的时序更改。

新版的22FDX PDK 将GLOBALFOUNDRIES特有的DFM 功能提供给设计人员。 GLOBALFOUNDRIES 提供DRC+、制造分析和记分（MAS）和Yield Enhancement Services（YES）设计套件，这些基于Calibre 平台的产品，可帮助设计团队分析用22FDX 制程技术的设计风格对可制造性的影响。 DRC+方法使用Calibre Pattern Matching工具的快速图形匹配功能，识别有问题的微影图形，然后使用Calibre nmDRC对这些图形的发生区域执行更严格的设计限制。MAS和YES方法有助于降低制造可变异性：MAS采用Calibre YieldAnalyzer中的DFM记分功能，可穿过所有层对IP模组和SoC进行记分；在YES服务中，GLOBALFOUNDRIES工程师使用Calibre YieldEnhancer中的Layout 修改功能，可修改边缘和导孔（Via）摆放位置，进而提升Layout 的稳健性。

Mentor Graphics的Design to Silicon事业部副总裁Joseph Sawicki表示：「藉由先进的Calibre分析和验证功能整合到其22FDX平台中，GLOBALFOUNDRIES提供了设计人员所需的工具提高其产品的稳健性。这不仅可确保高品质的设计送去制造，还可确保设计能更快量产。」

Mentor Graphics和GLOBALFOUNDRIES正合作能支援先进寄生电路参数抽取和可靠性验证Sign-off 功能的Calibre xACT和Calibre PERC解决方案。 （编辑部陈复霞整理）