特用材料供應商Entegris將擴建其在台灣新竹的台灣技術研發中心 (TTC)。擴建計畫包含專門開發過濾媒介的微汙染控制實驗室 (MCL)，這同時也是亞洲應用開發實驗室 (AADL) 遷移後的新址，該實驗室主要從事微量金屬、有機汙染物和奈米微粒的分析。此擴建計畫將擴大中心現有的研發、工業化生產和試產能力，同時建立單一的廠外合作據點，來滿足客戶夥伴對特用化學品、CMP 和液體過濾上的需求。

Entegris台灣區總經理謝俊安(左一)宣布其台灣技術研發中心進行擴建，將加入全新的微汙染物分析與技術開發能力。

Entegris全球業務副總裁謝俊安表示，隨著元件微縮持續是當今裝置高效構建的主要驅動力，製程材料與設備間的互動及相依性正位居關鍵的演化點上。將業界內最專業的人才齊聚在這座最先進的研發中心內，Entegris 將更有能力來滿足這些需求。擴建 MCL 設施後，將我們在液體過濾、特用化學品和 CMP 領域的核心專才整合，提供更完整的分析服務與技術開發解決方案，協助客戶夥伴在邏輯、DRAM 和 3D NAND 裝置製造上的挑戰。

在此同時，Entegris也發表了多項產品，包括 Oktolex 薄膜技術，這項技術可應用在先進的使用點光微影技術上。Oktolex 的薄膜可針對各種化學品的需求，強化各種薄膜原本的攔截機制，過濾重要的光化學汙染物。Oktolex 薄膜將薄膜特性與特定汙染物的吸收機制作匹配，進而可將薄膜的過濾效能最佳化，且不會與化學品的組成產生不良反應。

此外，還有可提升工廠效率的全新 GateKeeper GPU（氣體純化裝置）腐蝕性氣體純化器。這款新的 GPU 腐蝕性氣體純化器採用 Entegris 的高階媒介，其特殊設計可同時去除 18 種不同氣體內的濕氣並捕捉揮發性金屬微粒，氣體包括有 Cl2、HBr、HCl、CF4、BCl3、SO2 和 SF6 等，有助於提升晶圓產能。

Entegris同時也推出了 Integra Plus WS（堰式閥）高流量流體管理閥的效能資料。這些閥是今年七月推出，係針對半導體製程應用中的腐蝕性化學品所設計。Entegris 在 2017 年 6 月經過大量測試後收集到這些資料，資料顯示其流體效能比競爭對手適用於超純度大量化學品和 CMP 研磨液應用的閥高出 70%。