据日经产业新闻报导，由日本政府资助的产业技术综合研究所于日前设立「先端SoC共同研究中心」，并将与日本10家半导体厂合作，共同研发次世代半导体制造技术。若依照计画进行，预估2004年度开始可回收成果，为日本半导体业界提升竞争能力。

这项由日本产官合作进行的专案，是以开发90奈米制程的系统晶片（System LSI）生产技术并制定业界标准为目的。该案由产业技术综合研究所主导，并与日本10家半导体厂商所设立的「先端SoC合作研究团体（ASPLA）」合作，近百名产官界技术人员联手，在2003年度中为数位家电用系统晶片制程制订日本业界标准。

此外日本产业技术综合研究所也出资315亿日圆，买下NEC相模原厂的部分厂房（占地约4500平方公尺），设立一条试产线，主要将进行以90奈米制程在12吋晶圆上试作系统晶片的工程。