日本半导体设备大厂Tokyo Electron（TEL），日前发表该公司最新CLEAN TRACK ACT M光罩技术，该技术为一种应用于90至65奈米制程的高性能光光罩抗蚀涂装/显影机，并已可接受订单。

根据EE Times网站报导，TEL的CLEAN TRACK ACT M的制造采用了该公司专有的CLEAN TRACK ACT平台，并配合其多年半导体晶圆和平面显示器抗蚀涂装/显影技术。该产品适用于90～65nm组件制程节点的光罩处理。

新产品采用三个独立的高性能应用模块，包括一个光罩显影机、光罩抗蚀涂装机和光罩PEB（曝光后烘烤）装置。可因应OPC（光学近似校正）、相移和采用化学增强抗蚀中日益增加的复杂性，在提供精细制程更加先进的光罩处理控制与技术。

此外CLEAN TRACK ACT M中分离的光罩显影机、光罩抗蚀涂装机和烘烤装置可配置在一个系统中，可在减少加工缺陷的同时，增强了光罩内部以及光罩到光罩处理的一致性。