晶圓代工大廠台積電宣佈取消157奈米微影訂單，轉向為濕浸式科技（immersion technology）背書，此一消息對半導體設備大廠ASML來說不啻是一大打擊，也是繼英特爾（Intel）放棄157奈米微影技術設備藍圖，計劃以193奈米掃瞄機微影技術，進90奈米以下先進製程後，157奈米微影技術的另一挫敗。

根據網站Silicon Strategies報導，儘管英特爾已決定放棄157奈米微影科技，但直到最近台積電仍將157奈米微影科技列在該廠發展藍圖上；不過4月下旬時，胡正大便曾暗示，台積電可能打算繼續使用193奈米掃描機，進行65奈米製程，並計劃引進濕浸式科技，進行45奈米以下製程。而台積電全球行銷副總胡正大（Genda Hu）亦已證實該公司將取消157奈米微影設備訂單並轉而支持濕浸式微影設備。

雖然胡正大並未明指取消的是ASML的訂單，但根據業界人士指出，台積電至少已連續取消2次有關157奈米設備的訂單。半導體產業分析師表示，這項消息對ASML而言，可說是好壞參半，ASML一直希望出售157奈米掃瞄機給台積電，另一方面，ASML亦同時根據濕浸式科技，為晶圓廠與其他晶片供應商發展微影設備。

半導體業內人士指出，ASML與台積電業已針對ASML在193奈米方面的TwinScan平台，發展濕浸式設備，此外，日商半導體設備大廠Canon、Nikon亦已分別發展濕浸式微影科技。