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大陸半導體技術仍落後南韓5~6年
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2003年06月16日 星期一

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根據南韓新聞網站Digitimes報導,南韓產業研究院日前發布韓國與大陸半導體產業比較分析報告指出,目前大陸半導體技術水準雖達0.18微米製程,但仍落後南韓0.10微米的製程5~6年。

該報導引述南韓產業研究院研究員意見指出,大陸半導體產業發展仍有許多問題,包括具備經營晶圓廠經驗的人才不足,加上良率穩定性不足、售後服務與品質良劣等問題,而這些問題預計在短期內應難以獲得解決。目前大陸半導體技術以0.25微米製程技術為主,部分為0.18微米製程,而南韓主力記憶體產品則為0.13微米製程,基本上,二國半導體產業要直接交鋒競爭,尚有一段時日。

南韓產業研究院的報告指出,若以2002年為基準,大陸晶片設計能力與南韓相較約落後5年左右;大陸的晶片設計技術能力在0.35微米製程左右,與設計0.13微米製程以下產品的南韓業者相較差距尚遠。

而對於南韓該如何維持與大陸技術差距的問題,該機構則表示,南韓應透過開發90奈米以下產品,來加強次世代記憶體晶片與系統IC事業的發展;同時並應強化次世代12吋晶圓的量產能力以及提高成本競爭力。

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