多家半導體市調機構在美國加州Pebble Beach所舉行的半導體產業策略論壇（Industry Strategy Symposium；ISS）中，對於90奈米製程成熟度與否發表不同見解；有部份分析師認為0.13微米製程可順利在預定時程中升級90奈米，但亦有其他分析師認為90奈米製程困難重重，0.13微米製程仍是未來2年的主流。

網站Silicon Strategies引述市調機構VLSI總裁Dan Hutcheson看法指出，由於半導體廠商在邁向0.13微米製程的過程中已累積不少經驗，因此90奈米製程藍圖發展應可較為順利，而進入90奈米製程後，半導體廠商間的技術層次拉鋸加大，領先者一旦跨越門檻，跟隨者（followers）將會被遠遠拋在後面。

但並非所有分析機構對90奈米製程抱持樂觀看法，市調機構Semico Research分析師Joanne Itow指出，廠商在0.13微米進程中所習得的經驗可作為進入90奈米製程的敲門磚，其實只是一種理論，然而廠商實際所面臨的問題可能更為複雜。

市調機構Gartner Dataquest分析師Klau-Dieter Rinnen則指出，光罩成本的考量，使得廠商在進行90奈米設計時，已從20幾個設計縮減到個位數字，而高額的光罩成本也的確成為90奈米製程發展的重大阻礙之一。