半導體製造準分子雷射光源供應商-Cymer，日前宣佈它已經和一家微影設備主要供應商達成銷售協議，把總金額超過7,900萬美元的ELS-7000氪氟雷射光源提供給這家公司；ELS-7000是Cymer現有光源產品中最先進的氪氟雷射光源。根據這項採購協議，從現在開始一直到2003年底，Cymer將分批把這些光源設備提供給客戶。

Cymer總裁暨執行長Pascal Didier表示：「我們致力把更高的產品價值帶給客戶，滿足他們對於Cymer期望，這項合約顯示我們的努力已獲得成功；此外，它也證明我們的技術足以推動目前最先進微影設備，滿足客戶對這些技術的嚴格要求。整體來說，我們相信這份協議已清楚指出，ELS-7000正迅速為市場接受，成為今日最先進248 nm應用的最佳光源選擇。」

Cymer指出，ELS-7000可在4 kHz頻率下提供30W平均輸出功率，並支援最高掃瞄速度，為客戶帶來最大生產力和晶圓產出；對於200mm和300mm微影掃瞄機，即使它們使用數值孔徑大於0.8的鏡頭，ELS-7000也可提供完整的影像能力。這套光源設備還擁有高度窄線化頻寬，半波全高（FWHM）( 0.5 pm，95%能量範圍 ( 1.4 pm，使它得以提供更好的頻譜效能。