半导体制程设备、技术及支持服务供货商FSI International宣布，由于欧洲、亚太地区、日本和美国主要半导体厂商的需求强劲，该公司Antares CryoKinetic清洗设备的销售在2005年第三个会计季再创佳绩。Antares设备过去主要用于后段制程的瑕疵去除，现在随着愈来愈多客户开始利用90奈米技术生产半导体组件，这套清洗设备也获得更多厂商采用。

除此之外，创新的喷嘴设计和制程能力也将Antares清洗设备的应用范围扩大到前段制程瑕疵去除，尤其是它能在不损坏或蚀刻表面材料的情形下，将脆弱闸极结构上的微粒去除。

FSI主席暨执行长Don Mitchell表示：「Antares清洗设备持续获得全球客户新增与续约订单的热烈支持。随着90奈米制造进入量产，未来新技术又逐步投入应用，我们预期客户对于这套设备的兴趣将继续增加。在先进半导体组件制造的环境下，铜金属、多孔性低介电系数和其它先进材料以及精密电路结构都要求不会造成表面损害的清洗技术，而CryoKinetic技术为IC制造商提供一套可靠和实证有效的方法，帮助他们提高生产良率。」

目前已有超过10家主要半导体厂商对于Antares设备减少瑕疵和提高良率的卓越能力表示肯定。FSI在第三个会计季不但收到多家半导体厂商的后续订单，还将评估系统提供给许多有意购买的新客户，公司并在一次成功的实际展示后收到一份评估订单以及某家新客户的首次采购订单。

Antares设备是全自动化单晶圆CryoKinetic平台。这套设备可以处理12吋和8吋晶圆，无论是去除表面微粒瑕疵或提升客户的制造良率，都已创下许多成功的记录。AspectClean制程更可为用户提供先进组件制造所需的瑕疵去除能力。Antares设备采用非反应性的全干式处理法，它能在前段和后段制程中处理平面以及包含低k结构在内的图案化结构，进而去除这些平面和结构的瑕疵，不会造成k值改变或导线损害，其效果远胜过传统的清洗技术。