半導體製造準分子雷射光源供應商-Cymer，日前宣佈推出XLA 100 - 最新高效能光源XL系列的第一套產品，此家族將支援三個深紫外光波長的先進微影應用。XLA 100氬氟光源採用Cymer創新的MOPA（Master Oscillator Power Amplifier）雙氣體共振腔技術，不但是業界功率最高、頻寬最窄的雷射光源，還能大幅提高193 nm微影應用的產出。除了這套產品外，Cymer還宣佈它已接獲一家微影設備全球主要供應商的XLA 100訂單，總金額超過1.3億美元；根據雙方協議，從XLA 100推出開始一直到2004年底，Cymer將分批把這些光源設備提供給客戶。

Cymer執行長Bob Akins表示，公司致力讓更多新微影光源更快投入生產，並協助客戶實現它們所帶來的經濟效益。他說：「頻寬和功率是縮小設計規則的主要限制因素，透過將XLA 100整合至他們的先進微影工具，客戶即可協助晶片製造商克服此問題，同時提高整體的晶圓產出能力。這份最新協議證明了XLA 100關鍵優勢的重要性，包括雙共振腔設計、4 kHz頻率以及更低的消耗件與設備持有成本。」

Akins補充說：「我們相信XLA 100可以滿足明日193nm領域的先進微影應用要求；隨著業界迎向即將來到的『深紫外光黃金時代』。」