諾發系統（Novellus）於日前宣布，已導入超紫外線熱力學製程系統 SOLA xT，將其應用在先進的45奈米以下的邏輯元件生產，其利用超紫外線的照射來改善前一道製程鍍上的薄膜特性，這一新系統可監控紫外線強度及提供客製化的波長光線組合，因此可將系統延用到多世代。第一套SOLA xT 系統將運送到新加坡的聯華電子晶圓工廠 Fab 12i。

多平台續列式製程結構的SOLA，可以獨立控制每一單一平台的溫度、波長和強度，以提供最佳的產品一致性和效率。這種高度可配置的紫外線處理製程比單波長，單溫固化製程可讓超低介電質薄膜提高額外百分之二十五的硬度。在這種情況下，UVTP可通過化學鍵重建修復這種損傷。在前端製程，UVTP還可用來對N型金屬氧化物半導體閘道作應變力誘導晶體通道的設備。應變力誘導首先是沉積高拉伸應力的介電薄膜，並隨後將其暴露在紫外線更加大其應變力，進而導致增加了元件的性能。

針對上述的所有應用，監控設備的性能健康度和晶圓的性能的一致性，對提高量產生產效率而言是必需的。為了實現這一目標，新的SOLA xT平台配置紫外線監測功能和先進的演驛法，以維持對晶圓上元件的性能均勻度和穩定性。客製化的SOLA xT的光學組件對每個四個單一連續性平台做紫外線導向的最佳化，可達到晶片內部的最佳一致性成果。在連續式多平台系統架構下，可確保每個晶圓通過相同的通道統計出單一性能分佈，相對於競爭對手平台具有多達 4個或6個不同晶圓的路徑，因此統計出晶圓有著許多不同的性能分佈。