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imec採用High-NA EUV技術 展示邏輯與DRAM架構 (2024.08.11) 比利時微電子研究中心(imec),在荷蘭費爾德霍溫與艾司摩爾(ASML)合作建立的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室中,利用數值孔徑0.55的極紫外光曝光機,發表了曝光後的圖形化元件結構 |
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慧榮科技於FMS 2024推出高效PCIe Gen5 SSD控制晶片 (2024.08.07) 慧榮科技針對AI PC和遊戲主機設計推出一款PCIe Gen5 NVMe 2.0消費級SSD控制晶片SM2508。SM2508是全球首款採用台積電6奈米EUV製程的PCIe Gen5消費級SSD控制晶片,相較於競爭廠商的12奈米製程,大幅降低功耗50% |
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ASML:第二季營收主要來自浸潤式DUV系統銷售動能 (2024.07.17) 艾司摩爾 (ASML) 發佈 2024 年第二季財報,銷售淨額 (net sales)為 62 億歐元,淨收入為 (net income) 16 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 51.5%,第二季度訂單金額為 56 億歐元,其中 25 億歐元為 EUV 訂單 |
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小晶片大事記:imec創辦40周年回顧 (2024.07.02) 1984年1月,義大利自行車手Francesco Moser創下當時的世界一小時單車紀錄;美國雷根總統正式宣布競選連任;蘋果史上第一台Mac上市。而比利時正在緊鑼密鼓籌備一重大活動,於1月16日正式成立比利時微電子研究中心(imec) |
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ASML與imec成立High-NA EUV微影實驗室 (2024.06.05) 比利時微電子研究中心(imec)與艾司摩爾(ASML)共同宣布,雙方於荷蘭費爾德霍溫合作開設的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室正式啟用,為尖端的邏輯、記憶體晶片商以及先進的材料、設備商提供第一部高數值孔徑(high-NA)極紫外光(EUV)曝光機原型TWINSCAN EXE:5000以及相關的製程和量測工具 |
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英特爾晶圓代工完成商用高數值孔徑極紫外光微影設備組裝 (2024.04.22) 英特爾位於美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾研發基地中,研發人員已完成商用高數值孔徑極紫外光微影設備(High NA EUV)組裝。此台由微影技術領導者艾司摩爾(ASML)供應的TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV微影設備,將開始進行多項校準步驟,預計於2027年啟用、率先用於Intel 14A製程,協助英特爾推展未來製程藍圖 |
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調研:2023年前五大晶圓設備商營收微幅下跌1% ASML營收居榜首 (2024.03.07) 根據Counterpoint Research研究指出,面對記憶體終端市場的需求不振、經濟增長放緩、庫存進行調整以及智慧手機與個人電腦市場需求低迷等多重挑戰,2023年全球前五大晶圓廠設備供應商(WFE)的總營收較2022年略有下降,減少了1%,總額達到935億美元 |
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應材Sculpta圖案化解決方案 拓展埃米時代晶片製造能力 (2024.02.29) 隨著台灣晶圓代工大廠持續向外擴充版圖,並將製程推進至2nm以下,正加速驅動晶片製造廠商進入埃米時代,也越來越受惠於新材料工程和量測技術。美商應用材料公司則透過開發出越來越多採用Sculpta圖案成形應用技術,與創新的CVD圖案化薄膜、蝕刻系統和量測解決方案 |
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Imec展示高數值孔徑EUV生態系統進展 率先導入ASML曝光機 (2024.02.26) 於本周舉行的2024年國際光學工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議(Advanced Lithography and Patterning Conference)上,比利時微電子研究中心(imec)將呈現在極紫外光(EUV)製程、光罩和量測技術方面取得的進展,這些技術都在為實現高數值孔徑(high-NA)EUV微影應用而籌備 |
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Toppan Photomask與IBM簽署EUV光罩研發協議 推進2奈米技術 (2024.02.14) 半導體光罩供應商Toppan Photomask宣布,已與IBM就使用極紫外(EUV)光刻技術的2奈米(nm)節點邏輯半導體光罩的聯合研發達成協議。該協議尚包含開發用於下一世代半導體的高NA EUV光罩 |
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以超快雷射源 打造低碳金屬加工製程 (2023.12.26) 由於雷射具有高能量密度與聚焦性質,成為目前全球引領創新低碳先進製程的重要工具,工研院南分院也自2022~2023年逐步引進德國、立陶宛超快雷射源,合作打造研發創新與打樣中心 |
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imec與三井化學締結策略夥伴關係 推動EUV奈米碳管光罩護膜商用 (2023.12.22) 比利時微電子研究中心(imec)與三井化學共同宣布,為了推動針對極紫外光(EUV)微影應用的奈米碳管(CNT)光刻薄膜技術商業化,雙方正式建立策略夥伴關係。此次合作 |
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台灣美光台中四廠正式啟用 將量產HBM3E及其他產品 (2023.11.06) 今日美光科技宣布台中四廠正式落成啟用,這棟具指標性的建築將進一步推動台灣先進 DRAM 製程技術的開發和量產。美光台中四廠將整合先進探測與封裝測試功能,以量產 HBM3E 及其他產品,從而滿足人工智慧、資料中心、邊緣運算及雲端等各類應用日益成長的需求 |
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ASML第三季營收高於預期 2023全年成長率將達30% (2023.10.18) 全球晶片微影技術廠商艾司摩爾(ASML)今(18)日發佈 2023 年第三季財報,銷售淨額為67億歐元,淨收入為19億歐元,毛利率為51.9%,第三季度訂單金額為26億歐元,其中5億歐元為EUV |
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Intel 4製程技術正式啟動量產 英特爾為AI PC處理器鋪路 (2023.10.03) 英特爾近期慶祝採用極紫外光(EUV)技術的Intel 4製程問世,這也是歐洲首度於量產(HVM)階段使用EUV。此一重大時刻也揭示英特爾為即將推出的一系列產品奠定基礎,包括為AI PC打造的Intel Core Ultra處理器(代號Meteor Lake),以及2024年將推出、以Intel 3製程生產的新一代Intel Xeon處理器等 |
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淺談半導體設備後進者洗牌爭上位 彎道超車or山道猴子? (2023.09.15) 實現彎道超車,或成了山道猴子?
近期在網路上一則爆紅的YT影片「山道猴子的一生」,即從一位在超商上班的年輕人展開,由於虛榮心作祟且對車商的宣傳手法和潛在的財務風險視而不見,果斷地選購了一輛二手重型機車,卻因此逐步迷失自我,最終在一次山區賽車中,因為技術不足而失控摔車,慘遭對向貨車碾斃 |
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應材分享5大挑戰技術與策略 看好2030年半導體產值兆元美金商機 (2023.09.05) 因應人工智慧(AI)、物聯網產業興起,將進一步提高晶片需求並,推動半導體產業成長,預計最快在2030年產值可望突破1兆美元。然而,晶片製造廠商同時也須面臨維持創新步伐的重大挑戰,美商應用材料公司(APPLIED MATERIALS)也在今(5)日分享,將之歸類為「5C」大挑戰,以及對應提出的研發技術平台與策略 |
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ASML 2023年第二季營收69億歐元 DUV營收增加帶動銷售成長 (2023.07.19) 艾司摩爾 (ASML)發佈 2023 年第二季財報,銷售淨額 (net sales)為 69 億歐元,淨收入(net income) 19 億歐元,毛利率(gross margin)為 51.3%,第二季度訂單金額為 45 億歐元,其中 16 億歐元為 EUV |
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德國雷射工具機臺灣創浦臺南辦公室開幕 加速推動產業升級 (2023.07.07) 全球雷射技術與工具機領導品牌德商臺灣創浦公司 (TRUMPH Taiwan)臺南辦公室暨EUV培訓中心近日在新市工業區開幕,將加速推動整體產業升級,為臺南市帶來更多的就業機會,也呈現了半導體產業聚落的磁吸效應 |
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imec與ASML簽署備忘錄 推動歐洲半導體的研究與永續創新 (2023.06.30) 比利時微電子研究中心(imec)及艾司摩爾(ASML)宣布,雙方計畫在開發最先進高數值孔徑(high-NA)極紫外光(EUV)微影試驗製程的下一階段強化彼此之間的合作。
該試驗製程的目標是協助採用半導體技術的所有產業了解先進半導體技術所能帶來的契機,並提供一套能在未來支援其創新的原型設計平台 |