若有机会置身在晶圆厂中，走过蚀刻(Etch)、炉管(Diffusion)、离子植入(Implant)等制程部门，可能还不会有什么特别感觉，但是当看到厂房内有一部门，其灯全是黄色灯光，房间内仿佛洗底片之暗房般，而该部门称之为「黄光」，就不免让路过的人产生好奇心。

黄光，即是为避免产品曝光，产品在黄光下进行一连串的半导体微影(Lithography)制程动作，目前已有的微影技术为Visible(可见光)、NUV(Near Ultra-Violet，近紫外光)、MUV(Mid UV；中紫外光)、DUV(Deep UV；深紫外光)、VUV(Vacuum UV；真空紫外光)、EUV(Extreme UV；极短紫外光)、X-光等，至于G -line之436奈米以及I-line的365奈米，目前已渐渐为业界所淘汰。

随着奈米技术出现，黄光在半导体制程中亦显重要，因此如何利用黄光技术来克服线宽问题，为所有光罩代工厂及晶圆厂的共同目标。不过，目前业界真正能量产的是0.18微米的光罩，0.15微米光罩只有少量产出，0.13微米则是所有光罩代工厂研发进展的共同目标，究竟何时0.13微米才能真正成为光罩主流，仍是未知数。
...
...