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Nearfield完成3.8億美元D輪融資 創荷蘭deep-tech最大募資紀錄

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Nearfield Instruments 成功完成總額達 3.8 億美元(約 123 億新台幣)的 D 輪融資。本輪融資完成後,公司估值達 16 億美元, 是Nearfield 發展為半導體量測與檢測全球領導者的重要里程碑。



圖一 :   Nearfield此輪資金將用於加速技術藍圖推進、建立全球應用卓越中心、擴充產能及深化與頂尖半導體製造商的研發合作
圖一 : Nearfield此輪資金將用於加速技術藍圖推進、建立全球應用卓越中心、擴充產能及深化與頂尖半導體製造商的研發合作

本輪融資由新投資人,全球頂尖國際投資機構富達管理研究公司(Fidelity Management & Research Company)領投。其他參與本輪投資的新投資人還包括淡馬錫控股(Temasek)、Walden Catalyst Ventures、Innovation Industries、M&G 英卓投資管理及 Invest-NL。卡達投資局(Qatar Investment Authority,QIA)亦以新投資人身分參與本次投資。既有投資人 TNO Ventures 與荷蘭國際集團(ING)也持續加碼支持。本輪募資獲得市場超額認購,並創下荷蘭deep-tech領域歷來最大規模的募資紀錄。


此次重大投資為Nearfield 的發展歷程樹立重要里程碑,進一步鞏固其作為全球半導體量測與檢測領域新興領導者的地位。募集資金將用於加速公司技術創新藍圖的推進、建立全球應用卓越中心(Applications Centers of Excellence)、擴充產能、強化全球客戶支援體系,以及深化與全球領先半導體製造商的研發合作。


隨著AI應用持續快速擴展,半導體產業面臨必須在降低能源消耗的同時,大幅提升運算效能,並實現更快速且更高效率的資料傳輸。 Nearfield 創新的量測與檢測解決方案,能夠提供精準、可靠且具備高產能的量測能力,協助客戶有效掌握先進製程控制、提高生產良率,並確保產品具備量產可行性。


Nearfield 透過支援高數值孔徑極紫外光微影(High-NA EUV)技術、以及環繞式閘極(Gate-All-Around,GAA)、互補式場效電晶體架構 (CFET architectures),以及混合鍵合(Hybrid Bonding)3D 整合等先進製程所需的關鍵量測能力,在推動下一世代 AI 運算平台中實現可擴展、高能源效率、確保量產可行性及產品可靠度等方面扮演著不可或缺的核心角色。


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