KLA-Tencor推出5D圖案成型控制解決方案的關鍵系統

KLA-Tencor 公司今天宣佈，推出WaferSight PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer 9.0 先進數據分析系統。這三種新產品支援 KLA-Tencor 獨特的 5D 圖案成型控制解決方案，此方案著重於解決圖案成型製程控制上的五個主要問題 — 元件結構的三維幾何尺寸、時間效率和設備效率。5D 圖案成型控制解決方案主要透?對微影模組製程和非微影模組製程的量化、優化、和監控，來獲取最佳的圖案成型結果。

透?將以上設備測量結果與智慧回饋及前饋製程控制回路相結合，此項解決方案能夠協助晶片製造商利用現有製程裝置以更快及更有成效的方式來提升多重圖案成型技術、隔板周期分割及其他先進圖案成型技術。

KLA-Tencor 參數解決方案集團副總裁 Ahmad Khan 說：「製程控制幫助我們的客戶在駕馭日漸狹窄的製程窗口、縮小圖案疊層對準誤差預算以及複雜的創新圖案成型技術上扮演了重要的角色。在微影光刻模組中，我們的 Archer 500 疊層對準和 SpectraShape 9000 關鍵尺寸先進測量系統提供了識別和監測圖案成型誤差的資訊。我們的新型 WaferSight PWG和 LMS IPRO6提供了光刻模組以外的製程資料或光罩圖案位置誤差，對圖案成型偵錯提供了額外的資訊。在 K-T Analyzer 9.0 靈活的數據資料分析支援下，它適切整合了整個晶圓廠各方面的測量數據，進而擴大了製程窗口，因而能夠有效的改善客戶尖端產品在生產線上的圖案成型監控。」
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